高科技產(chǎn)業(yè)與專利從專利指標(biāo)觀察產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新變化

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1、高科技產(chǎn)業(yè)與專利 從專利指標(biāo)觀察產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新變化 報告人：吳榮義 院長 中華民國九十三年八月三十日 大專院校經(jīng)濟學(xué)教師研習(xí)營 財政問題與國家經(jīng)濟建設(shè) 1 大 綱 前言： 高科技產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新、發(fā)明與專利 專利指標(biāo)與資料庫之基本介紹 技術(shù)創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 新技術(shù)探索與 IP加值規(guī)劃之應(yīng)用 結(jié)語 2 高科技產(chǎn)業(yè)的背後 . 臺灣雖為光碟機生產(chǎn)王國，但不論 CD-ROM、 DVD-ROM、 CD- RW等產(chǎn)品，生產(chǎn)廠商出貨時均須繳交一定比例或金額的權(quán)利金 予規(guī)格制定的廠商，其中 DVD-ROM生產(chǎn)廠商， 每臺要繳 10美 元權(quán)利金給 10C聯(lián)盟 ，約佔業(yè)者出貨價格的 2025%，造成廠商 沈重的負(fù)擔(dān)。

2、臺灣股王聯(lián)發(fā)科，在 2003年因侵權(quán)事件賠償 ESS約 9000萬美金 （臺幣約 30億元 ） ， 2004又遭 Zoran 與 Oak專利侵權(quán)告訴。 聯(lián)電在美國控告矽統(tǒng)侵害技術(shù)製程，最後卻演變成聯(lián)電以百億 元的金額併購矽統(tǒng)， 以戰(zhàn)逼和 的手法，顯示國內(nèi)企業(yè)開始 靈活運用法律，掌握制敵先機。 以面板大廠友達為例， 2003年支付給富士通（ FDTC）的權(quán)利金 與研發(fā)費用達 2.44億元 ，取得廣視角技術(shù)，但依舊必須面臨夏 普在後續(xù)一連串專利侵權(quán)控訴。 (日本夏普自 1967年即已投入液晶面板的技術(shù)，專利布局長達三、四十年，專利分布既深 且廣，臺灣從 97、 98年才開始發(fā)展液晶產(chǎn)業(yè)，勢必面臨來

3、自日本廠商的專利侵權(quán)大戰(zhàn)。 ) 當(dāng)專利侵權(quán)訴訟不斷在高科技產(chǎn)業(yè)蔓延 一、前言 -whats happen ? 3 知識經(jīng)濟與智財權(quán) 在 知識經(jīng)濟中，知識密集產(chǎn)業(yè)已凌駕勞力密集產(chǎn)業(yè)，知識經(jīng) 濟強調(diào)研發(fā)與創(chuàng)新，而 任何發(fā)明成果可透過產(chǎn)權(quán)化（ 亦即專 利、商標(biāo)、積體電路佈局、著作權(quán)及營業(yè)秘密等） ，由國家 合法授予專有製造、販賣與使用的獨佔權(quán)利，獲得壟斷發(fā)明 的利益。 知識經(jīng)濟的實踐，就是各種國際化智慧財產(chǎn)權(quán)的研發(fā)、創(chuàng)新 與權(quán)利保護本身。特別是以研發(fā)密集度較高的高科技企業(yè)更 應(yīng)致力於科技研發(fā)、發(fā)展專利技術(shù)，並做好專利保護，才能 致勝，享有主宰未來的優(yōu)勢。 專利是為發(fā)明之火添加利益之火林肯 一、前言

4、-why ? 4 一、前言 -What is IPRs scope ? 智財權(quán)的範(fàn)圍 智財權(quán) 營業(yè) 秘密 專利權(quán) 著作權(quán) 商標(biāo)權(quán) 積體電路佈局 發(fā)明 新型 新式樣 文字 圖形 記號 顏色組合 聲音 立體商標(biāo) 地理標(biāo)示 網(wǎng)域名稱 音樂 建築 戲劇舞蹈 圖形 美術(shù) 語文 表演 電腦程式 攝影 試聽 設(shè)計 方法 程式 配方 技術(shù) 製程 5 誰在乎專利 ? 一、前言 -who care ? 高科技企業(yè)致力專利的申請與獲得活動，藉以累積競爭優(yōu)勢 企業(yè) 核準(zhǔn)件數(shù) 企業(yè) 核準(zhǔn)件數(shù) 企業(yè) 核準(zhǔn)件數(shù) 1 I B M 3 ,4 1 5 1 I B M 3 ,2 8 8 1 I B M 3 ,4 1 1 2 C a

5、n n o n 1 ,9 9 2 2 C an n o n 1 ,8 9 3 2 NE C 1 ,9 5 3 3 Hitach i 1 ,8 9 3 3 M icr o n 1 ,8 3 3 3 C a n n o n 1 ,8 7 7 4 M ats u s h ita E lectr ic 1 ,7 8 6 4 NE C 1 ,8 2 1 4 M icr o n 1 ,6 4 3 5 HP 1 ,7 5 9 5 Hitach i 1 ,6 0 2 5 Sam s u n g E lectr o n ics 1 ,4 5 0 6 M icr o n 1 ,7 0 7 6 M ats u s

6、h ita E lectr ic 1 ,5 4 4 6 M ats u s h ita E lectr ic 1 ,4 4 0 7 I n tel 1 ,5 9 2 7 So n y Cor p o r atio n 1 ,4 3 4 7 So n y Cor p o r atio n 1 ,3 6 3 8 P h ilip s E lectr o n ics 1 ,3 5 3 8 Gen er al E lectr ic 1 ,4 1 6 8 Hitach i 1 ,2 7 1 9 Sam s u n g E lectr o n ics 1 ,3 1 3 9 HP 1 ,3 8 5 9 M

7、its u b is h i De n k i 1 ,1 8 4 10 So n y Cor p o r atio n 1 ,3 1 1 10 M its u b is h i De n k i 1 ,3 7 3 10 Fu j its u 1 ,1 6 6 註：紅色網(wǎng)底者表比前一年排名上升，藍色網(wǎng)底者比前一年排名下降，白色網(wǎng)底者表名次與前一年相同。 NE C 2 0 0 3 年發(fā)明型專利獲得數(shù)為 1181 件，被擠出前十名，名列全球 15 名。 資料來源： USP T O 新聞稿（ J an u ar y 1 2 , 2 0 0 4 ） 2003 年 2002 年 2001 年 2001-

8、2003 年 USP T O 發(fā)明型專利核準(zhǔn)數(shù)前十大企業(yè)排行榜 6 知識經(jīng)濟之企業(yè)創(chuàng)新到創(chuàng)業(yè)活動 -專利的角色 資訊 /需求 掌握 市場 (國內(nèi)外 ) 技術(shù) (國內(nèi)外 ) 專利 (國內(nèi)外 ) 加值規(guī)劃 專利布局 專利包裝 專利推廣 專利保護 專利組合 技術(shù)產(chǎn) 業(yè)化 技術(shù)鑑價 授權(quán)談判 技術(shù)團隊 新事業(yè)育成 技術(shù)的新創(chuàng) 事業(yè)化 營運計畫書 產(chǎn)品組合 經(jīng)營團隊 資金募集 後續(xù)作業(yè) 技術(shù)取得 國內(nèi) 全球 技術(shù) /市場可 行性評估 評估市場潛力 技術(shù)可行性 申請專利之效益 技術(shù)需求 技術(shù)評估 技術(shù)包裝、組合 專利鑑價、推廣、 保護 專利佈局 技術(shù)來源 研究機構(gòu) 學(xué)校 業(yè)界 國外 Input Proce

9、ss 技術(shù)授權(quán) 成立新事業(yè) 企業(yè)諮詢服務(wù) 技術(shù)再應(yīng)用 Output 外部取得 新需求 技術(shù)育成 技術(shù)行銷與談判 自行研發(fā) Generation+Diffusion Knowledge Commercialization Start-up 一、專利的重要性 -How to use the patent as a weapon ? 資料來源：根據(jù)王本耀 (2004), 工研院對智財加值之演進與做法 ”報告，作部分修正。 -專利指標(biāo)優(yōu)點與用途 -專利指標(biāo)的限制 -專利相關(guān)的研究 -專利資料庫的介紹 -專利指標(biāo)的介紹與應(yīng)用 二、專利指標(biāo)與資料庫之基本介紹 專利指標(biāo)與資料庫之基本介紹 8 專利指標(biāo)的優(yōu)點

10、與用途 專利指標(biāo)的優(yōu)點 ： 長期、有系統(tǒng)、豐富的、客 觀的技術(shù)資訊 專利分析的用途 ： Competitive Intelligence （國家創(chuàng)新系統(tǒng)的創(chuàng)新能力或企業(yè)智慧資本衡量） M&A Targeting and Due Diligence （購併與專利查核） Investment Targeting（投資目標(biāo)） Science and Technology Policy（科技政策檢視） 二、專利指標(biāo)與資料庫之基本介紹 9 專利分析的限制 ： 專利申請傾向 (Patent Propensity):製藥 vs. 銀行 資料截斷偏差 (Truncation Bias): 被引用數(shù) 1990

11、vs.2002 地域效應(yīng) (Geographic localization effect)：本國申請與引用 領(lǐng)域效應(yīng) (Technological field effects)： ICT vs. 機械 專利價值 ： 1.同一專利在 不同時間點 的價值不同：如遞延性、替代性技術(shù) 出現(xiàn)、審查制度鬆緊差異。 2.單一專利與專利組合的 價值 :單一專利通常需要搭配其他專利 才可以生產(chǎn)最終產(chǎn)品，單一專利的價值自然較低，換言之一 群搭配的專利價值高於個別專利加總。 人為因素 ：專利的時間序列資料呈現(xiàn)究竟是真實現(xiàn)象 與人為現(xiàn)象，如 1979年各國在美國專利核準(zhǔn)數(shù)下降是因 審查速度過慢所致。 專利指標(biāo)的限制

12、二、專利指標(biāo)與資料庫之基本介紹 10 專利分析的限制： -專利分析需要綿密之蒐索及逐案分析，耗時及耗經(jīng)費 -專利分析需要特定資料庫及專業(yè)分析軟體工具，因此需 要專業(yè)人員運作及協(xié)助 專利指標(biāo)的限制 二、專利指標(biāo)與資料庫之基本介紹 11 專利指標(biāo)研究與發(fā)展 專利指標(biāo)研究 Scherer (1995) 與 Schmookler (1966) 利用專利進行創(chuàng)新報酬 之研究 CHI （ 1980）建構(gòu)專利引用指標(biāo)分析資料庫 Griliches (1984) 進行 R&D, 專利與生產(chǎn)力相關(guān)研究 IBM公司的 Reisner(1963)是最早應(yīng)用此一專利引用分析的先 驅(qū)，其利用專利引用資料，找出關(guān)鍵專利技

13、術(shù)。 美國國家科學(xué)基金會（ National Science Foundation）重要出 版品 Science Engineering Indicators利用專利指標(biāo)評比 各國之技術(shù)績效。 Jaffe, Trajtenberg, Brown Hall, Henderson （ 1998-2004） 利用 專利引用次數(shù)來觀察知識流動（跨國、跨創(chuàng)新系統(tǒng)成員、跨 領(lǐng)域） 二、專利指標(biāo)與資料庫之基本介紹 12 時間： 1976 專利申請、核準(zhǔn)序號與日期 發(fā)明人資料 申請人資料 專利分類資料 （美國採美國專利分類 USPC，不同於其他國家採國際 專利分類 IPC） 專利引證資料 專利摘要文字 專利範(fàn)

14、圍 專利資料庫的介紹 專利電子資料 ： USPTO、 JPO、 EPO、中國專利資料庫、 臺灣專利資料庫 （網(wǎng)上免費查詢首頁資料） 專利首頁內(nèi)容 （以 USPTO為例）： 二、專利指標(biāo)與資料庫之基本介紹 13 專利引用解說 Backward Citations (References) Forward Citations 9 U.S. Patents 5 Foreign Patents IBM Patent No. 5, 278,955 Issued 1994 6 U.S. Patents 6 Other References, Including 3 Science References T

15、ime 1985-92 1994 1995-98 A Starting Patent references prior art, and is cited by later patents 二、專利指標(biāo)與資料庫之基本介紹 14 專利指標(biāo)的介紹 一、專利指標(biāo) 專利核準(zhǔn)件數(shù) （ Patent Number， PN） 專利申請的成功率 （ Success Rate of Patent Application, SRPA） 專利引用數(shù) （ Patent Citation Number, PCN） 現(xiàn)行衝擊指數(shù) （ Current Impact Index， CII） 技術(shù)強度 （ Technology

16、 Strength， TS） 技術(shù)顯示比較利益 （ Revealed Technological advantage， RTA） 又稱活動性指數(shù) （ Activity Index, AI) 非專利之參考資料 (Non-patent Reference Score， NPRS) 科學(xué)關(guān)連 （ Science Linkage, SL） 技術(shù)生命週期 （ Technology Cycle Time, TCT） 二、專利指標(biāo)與資料庫之基本介紹 15 專利指標(biāo) (Patent Indicators) 國家層面 產(chǎn)業(yè)層面 廠商層面 關(guān)鍵技術(shù) (Critical Technologies) 科學(xué)與技術(shù)關(guān)聯(lián)程

17、度 (Science & Technology inkage) 國家技術(shù)專利強度 技術(shù)自主性分析 競爭國之分析 技術(shù)創(chuàng)新對經(jīng)濟成長之貢獻 技術(shù)或知識外溢效果 產(chǎn)學(xué)研知識流動 研發(fā)國際化 關(guān)鍵技術(shù) (Critical Technologies) 科學(xué)與技術(shù)關(guān)聯(lián)程度 (Science & Technology Linkage) 技術(shù)專利強度 技術(shù)自主性分析 研發(fā)生產(chǎn)力之衡量 關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域之領(lǐng)導(dǎo)廠商 專利技術(shù)發(fā)展軌跡與新趨勢 專利強度 競爭者分析 交互授權(quán)分析 領(lǐng)導(dǎo)廠商之技術(shù)發(fā)展軌跡 專利價值分析 企業(yè)技術(shù)佈局策略分析 專利指標(biāo)應(yīng)用層面 二、專利指標(biāo)與資料庫之基本介紹 -問題界定 -衡量架構(gòu)與方法

18、-結(jié)果分析 技術(shù)創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 17 制訂技術(shù)創(chuàng)新政策前的難題 未來走向 創(chuàng)新系統(tǒng) 目前的技術(shù)創(chuàng)新能耐 及技術(shù)創(chuàng)新策略 政府政策檢討 政策介入空間？ 可能的政策作法？ 如何衡量創(chuàng)新能耐？ 如何觀察創(chuàng)新策略？ 如何觀察未來走向？ 問題界定 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 18 創(chuàng)新政策檢視與政策工具規(guī)劃的準(zhǔn)備 如何衡量技術(shù)創(chuàng)新能耐？ 國家整體的技術(shù)創(chuàng)新能耐（量與質(zhì)）？ 各產(chǎn)業(yè)技術(shù)類別中的技術(shù)創(chuàng)新能耐（量與質(zhì)）？ 國家創(chuàng)新系統(tǒng)中的成員的技術(shù)創(chuàng)新能耐（量與質(zhì)）？ 如何觀察技術(shù)創(chuàng)新策略？ 創(chuàng)新系統(tǒng)中（產(chǎn)學(xué)研）各角色的技術(shù)創(chuàng)新策略為何？ （深化？延伸？著重製程？多角化？） 創(chuàng)新系統(tǒng)中各角色的創(chuàng)新策略如何互動

19、？ 與其他國家間的互動關(guān)係為何？ 企業(yè)研發(fā)國際化趨勢？ 如何觀察未來走向？ 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 問題界定 19 國家技術(shù)創(chuàng)新競爭力之衡量指標(biāo) 國際競爭力 內(nèi)部 研發(fā)投入 投入面 NIS主角 產(chǎn)業(yè)部門 技術(shù)貿(mào)易 附加價值 高科技產(chǎn)品 出口 專利 論文 版權(quán) 商標(biāo) . 過程面 研發(fā)基礎(chǔ)建設(shè) 創(chuàng)新環(huán)境 創(chuàng)新政策 產(chǎn)出面 產(chǎn)業(yè)科技創(chuàng)新競爭力 NIS互動 創(chuàng)新產(chǎn)權(quán)化 委外或 產(chǎn)權(quán)購買 非研發(fā)型 態(tài)的投入 經(jīng)濟 /產(chǎn)業(yè)成長 商品化 產(chǎn)品雛形 新服務(wù) 新運籌 新經(jīng)營模 式 . 創(chuàng)新產(chǎn) 品銷售 新創(chuàng)企業(yè) 科技人力 資源 VC Support 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -衡量指標(biāo)系統(tǒng) 20 研發(fā)創(chuàng)新系統(tǒng)評估之

20、觀念架構(gòu) 架構(gòu)條件 Framework Conditions 投資與支持 Investment & Support 創(chuàng)新系統(tǒng)能量 Capability of NIS 工商倫理 行政法制 教育文化 國際視野 社會安全 永續(xù)發(fā)展 資金 Support 政府支持 Investment 企業(yè)投資 資 訊 通 訊 科 技 Linkage 科學(xué) 創(chuàng)新 科學(xué)產(chǎn)出 創(chuàng)新產(chǎn)出 新產(chǎn)品 新事業(yè) 商業(yè)化 知識產(chǎn)業(yè)化 科學(xué) 創(chuàng)意 企業(yè) 海外資源 大 學(xué) 研 究 機 構(gòu) 系統(tǒng)績效 Performance of NIS 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -NIS理論架構(gòu) 21 方法一：調(diào)查與統(tǒng)計 根據(jù)熊彼得的分類，創(chuàng)新可分成： 新

21、產(chǎn)品的引進；新生產(chǎn)方法的採用；新市場的開拓；新 原料的取得及新組織的推行 歐盟進行創(chuàng)新調(diào)查所參考的 Oslo Manual(OECD, 1997) ： 創(chuàng)新的種類：技術(shù)的產(chǎn)品及製程創(chuàng)新、組織創(chuàng)新 創(chuàng)新的標(biāo)的：產(chǎn)品、製程、配送 創(chuàng)新的程度：全新技術(shù)及漸進創(chuàng)新 創(chuàng)新的水準(zhǔn)：領(lǐng)先全球的創(chuàng)新、領(lǐng)先特定區(qū)域（國家） 的創(chuàng)新以及領(lǐng)先企業(yè)內(nèi)部的創(chuàng)新 各國根據(jù) OECD Frascati Manual所做的研究發(fā)展活動調(diào)查 與統(tǒng)計 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -衡量方法 問題界定 22 方法二：從專利來衡量 國家整體的技術(shù)創(chuàng)新能量 資料來源：林秀英 (2004) 1990 2002 2003 1990 2002

22、2003 2003 90- 03 CA GR 1 美國 52 ,977 97 ,127 98 ,598 53 .3 9 52 .6 6 52 .7 1 1. 51 4. 89 2 日本 20 ,743 36 ,340 37 ,250 20 .9 1 19 .7 0 19 .9 1 2. 50 4. 61 3 德國 7,86 2 11 ,957 12 ,140 7. 92 6. 48 6. 49 1. 53 3. 40 4 臺灣 861 6,73 0 6,67 6 0. 87 3. 65 3. 57 -0 .8 0 17 .0 6 5 南韓 290 4,00 9 4,13 2 0. 29 2.

23、17 2. 21 3. 07 22 .6 7 1 美國 47 ,391 86 ,972 87 ,901 52 .4 4 51 .9 8 52 .0 0 1. 07 4. 87 2 日本 19 ,525 34 ,859 35 ,517 21 .6 1 20 .8 3 21 .0 1 1. 89 4. 71 3 德國 7,61 4 11 ,280 11 ,444 8. 43 6. 74 6. 77 1. 45 3. 18 4 臺灣 732 5,43 1 5,29 8 0. 81 3. 25 3. 13 -2 .4 5 16 .4 5 5 南韓 225 3,78 6 3,94 4 0. 25 2.

24、26 2. 33 4. 17 24 .6 4 1 美國 5,06 9 9,32 5 10 ,045 63 .1 7 60 .3 5 60 .6 0 7. 72 5. 40 2 日本 1,13 7 1,36 4 1,56 7 14 .1 7 8. 83 9. 45 14 .8 8 2. 50 3 臺灣 129 1,29 4 1,37 0 1. 61 8. 37 8. 26 5. 87 19 .9 3 4 德國 182 509 509 2. 27 3. 29 3. 07 0. 00 8. 23 5 加拿大 212 410 446 2. 64 2. 65 2. 69 8. 78 5. 89 10 南

25、韓 65 211 186 0. 81 1. 37 1. 12 -1 1. 85 8. 42 註： 1. 專利所屬國別係以 USP TO 定義以第一個發(fā)明人之國別 為 認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)。 2.CAGR 為 複合平均年成長率。 資料來源 : USP TO , 臺灣經(jīng)濟 研 究院整理。 設(shè)計型專利 件數(shù) 佔有率 發(fā)明型專利 國家 單位：件、 成長率 附表六、 2003 年美國專利核準(zhǔn)件數(shù)之國家排名 所有專利 2003 排名 專利件數(shù)排名 所有專利 Rank(4） （持續(xù)第五年） 發(fā)明型專利 Rank(4) （持續(xù)第四年） 設(shè)計專利 Rank (3) （ 1992） 專利件數(shù)成長率 1990-2003年間在美

26、國獲 得專利數(shù)（ TOP10大）平 均年成長率以臺灣與南韓 最高。 2003年整體 USPTO專利 件數(shù)仍呈現(xiàn)停滯性成長走 勢，成長率僅 1.42，臺 灣小幅減少。 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -衡量方法 -國家技術(shù)創(chuàng)新能量 23 專利生產(chǎn)力 -每百萬人在美國獲得所有專利數(shù) 國家 件 / 人年 國家 件 / 人年 國家 件 / 人年 國家 件 / 人年 國家 件 / 人年 美國 298 美國 298 美國 304 美國 299 美國 302 日本 245 日本 246 日本 261 日本 274 日本 279 瑞士 178 臺灣 210 臺灣 240 臺灣 242 臺灣 236 臺灣 168 瑞士

27、 184 瑞士 198 瑞典 197 以色列 189 瑞典 158 瑞典 178 瑞典 197 瑞士 190 瑞士 183 以色列 126 以色列 130 以色列 157 以色列 164 瑞典 171 芬蘭 126 德國 124 芬蘭 141 芬蘭 155 芬蘭 166 德國 114 芬蘭 119 德國 137 德國 137 德國 139 加拿大 106 加拿大 111 加拿大 116 加拿大 110 加拿大 110 丹麥 92 丹麥 82 丹麥 90 新加坡 98 新加坡 102 荷蘭 79 荷蘭 78 荷蘭 83 比利時 87 丹麥 99 南韓 77 南韓 71 南韓 75 荷蘭 86 南

28、韓 83 法國 65 比利時 68 奧地利 73 南韓 80 荷蘭 83 比利時 63 法國 64 新加坡 72 丹麥 80 比利時 75 英國 61 英國 62 比利時 70 法國 67 奧地利 73 奧地利 59 奧地利 62 法國 68 奧地利 65 法國 65 挪威 50 挪威 55 英國 67 英國 65 英國 61 澳洲 37 新加坡 54 挪威 59 挪威 54 挪威 58 新加坡 37 澳洲 37 澳洲 45 澳洲 44 澳洲 46 紐西蘭 30 愛爾蘭 32 愛爾蘭 37 紐西蘭 36 愛爾蘭 41 註：因 2003 年之年中人口 尚 未公布，故以 2002 數(shù) 值 代替。

29、資料來源： 1 . U S P TO 每週之專利公開說明書，臺灣經(jīng)濟 研 究院計算。 2 . 主要國家資料年中人口的 主計處網(wǎng)站。 3 .IM F ， I FS 。 表 、各國近五年在美國每百萬人口之發(fā)明型專利件數(shù) 1999 2000 2001 2002 2003 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 國家技術(shù)產(chǎn)出的相對水準(zhǔn) 24 技術(shù)創(chuàng)新知識流動 -累 積被引用的排名 註： 1. 被引證次數(shù)係指被當(dāng)年與以後各年專利（累計至 2003 年）引為前導(dǎo)技術(shù)的次數(shù)。 2 . 專利所屬國別係以 U S P T O 定義以第一個發(fā)明人之國別為認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)。 資料來源 : U S P T O 專利磁帶資料 , 臺灣經(jīng)濟研究

30、院計算 . 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -國家技術(shù)創(chuàng)新擴散貢獻 名 次 國家 被引證次 數(shù) 百分比 自我引 用比重 名 次 國家 被引證 次數(shù) 百分比 自我引 用比重 名次 國家 被引證 次數(shù) 百分比 自我引 用比重 名次 國家 被引證 次數(shù) 百分比 自我引 用比重 - 總計 5 7 9 , 1 3 2 1 0 0 . 0 0 - 總計 3 9 9 , 6 6 0 1 0 0 . 0 0 - 總計 2 3 8 , 5 2 0 1 0 0 . 0 0 - 總計 8 3 , 1 4 4 1 0 0 . 0 0 1 美國 3 6 8 , 5 0 1 6 3 . 6 3 7 8 . 0 2 1 美國 2

31、4 8 , 3 6 7 6 2 . 1 4 7 6 . 6 4 1 美國 1 4 3 , 5 2 3 6 0 . 1 7 7 5 . 8 4 1 美國 4 7 , 9 9 2 5 7 . 7 2 7 5 . 1 3 2 日本 1 0 4 , 6 9 5 1 8 . 0 8 4 9 . 1 5 2 日本 7 3 , 8 2 0 1 8 . 4 7 5 0 . 9 8 2 日本 4 5 , 3 9 3 1 9 . 0 3 5 4 . 7 0 2 日本 1 7 , 4 3 8 2 0 . 9 7 5 7 . 4 6 3 德國 2 1 , 0 1 8 3 . 6 3 2 7 . 2 1 3 德國 1

32、6 , 0 4 9 4 . 0 2 2 9 . 1 7 3 德國 9 , 9 6 7 4 . 1 8 3 1 . 1 4 3 德國 3 , 5 3 8 4 . 2 6 3 5 . 9 2 4 臺灣 1 4 , 9 0 8 2 . 5 7 3 2 . 5 1 4 臺灣 1 2 , 5 7 8 3 . 1 5 3 3 . 9 2 4 臺灣 8 , 5 3 6 3 . 5 8 3 6 . 6 2 4 臺灣 3 , 2 1 3 3 . 8 6 4 5 . 5 6 5 加拿大 1 1 , 3 0 0 1 . 9 5 1 3 . 9 4 5 加拿大 7 , 7 8 3 1 . 9 5 1 5 . 9 6

33、5 南韓 4 , 8 9 0 2 . 0 5 2 5 . 4 0 5 南韓 1 , 8 2 0 2 . 1 9 3 0 . 5 5 6 南韓 1 0 , 5 7 6 1 . 8 3 1 9 . 9 0 6 南韓 7 , 2 1 0 1 . 8 0 2 0 . 6 2 6 加拿大 4 , 6 3 4 1 . 9 4 1 6 . 7 0 6 加拿大 1 , 5 6 7 1 . 8 8 1 8 . 7 0 7 英國 1 0 , 0 4 6 1 . 7 3 1 2 . 1 6 7 英國 6 , 9 2 1 1 . 7 3 1 4 . 0 6 7 英國 4 , 2 2 1 1 . 7 7 1 5 . 9

34、 9 7 英國 1 , 4 2 3 1 . 7 1 1 6 . 7 3 8 法國 8 , 8 7 0 1 . 5 3 1 9 . 3 2 8 法國 6 , 0 3 5 1 . 5 1 2 0 . 3 1 8 法國 3 , 4 7 3 1 . 4 6 2 1 . 2 2 8 法國 1 , 2 2 5 1 . 4 7 2 5 . 4 7 9 瑞典 3 , 9 2 9 0 . 6 8 1 4 . 4 6 9 瑞電 3 , 1 4 6 0 . 7 9 1 3 . 8 0 9 瑞典 1 , 8 5 5 0 . 7 8 1 7 . 3 6 9 瑞典 712 0 . 8 6 2 1 . 7 7 10 荷蘭

35、3 , 0 4 3 0 . 5 3 1 1 . 7 0 10 義大利 2 , 4 0 6 0 . 6 0 1 6 . 5 8 10 以色列 1 , 5 6 0 0 . 6 5 1 4 . 8 1 10 以色列 536 0 . 6 4 1 8 . 4 7 11 義大利 3 , 0 1 4 0 . 5 2 1 5 . 3 6 11 以色列 2 , 0 7 0 0 . 5 2 1 4 . 0 1 11 義大利 1 , 4 0 1 0 . 5 9 1 7 . 9 9 11 義大利 512 0 . 6 2 1 9 . 7 3 12 以色列 2 , 9 3 4 0 . 5 1 1 0 . 7 7 12 荷

36、蘭 1 , 9 0 1 0 . 4 8 1 4 . 8 3 12 荷蘭 1 , 2 8 4 0 . 5 4 1 8 . 3 0 12 荷蘭 436 0 . 5 2 2 4 . 0 8 13 瑞士 2 , 6 7 7 0 . 4 6 1 6 . 8 8 13 瑞士 1 , 7 6 3 0 . 4 4 1 4 . 8 0 13 瑞士 1 , 0 5 1 0 . 4 4 1 6 . 8 4 13 瑞士 375 0 . 4 5 2 4 . 8 0 14 芬蘭 2 , 2 8 6 0 . 3 9 1 5 . 7 0 14 芬蘭 1 , 4 7 0 0 . 3 7 1 6 . 4 6 14 澳洲 979

37、0 . 4 1 2 3 . 7 0 14 新加坡 352 0 . 4 2 2 3 . 3 0 15 澳洲 1 , 9 1 5 0 . 3 3 8 . 5 6 15 澳洲 1 , 3 9 5 0 . 3 5 1 5 . 5 6 15 芬蘭 921 0 . 3 9 1 7 . 2 6 15 芬蘭 337 0 . 4 1 1 7 . 5 1 16 比利時 1 , 6 3 5 0 . 2 8 1 4 . 9 2 16 比利時 1 , 1 5 6 0 . 2 9 1 7 . 3 9 16 新加坡 660 0 . 2 8 1 2 . 8 8 16 澳洲 312 0 . 3 8 2 5 . 9 6 17 丹

38、麥 1 , 1 0 6 0 . 1 9 1 1 . 8 4 17 新加坡 837 0 . 2 1 1 1 . 9 5 17 比利時 611 0 . 2 6 0 . 3 3 17 比利時 237 0 . 2 9 3 1 . 6 5 18 新加坡 942 0 . 1 6 6 . 3 7 18 丹麥 634 0 . 1 6 1 2 . 4 6 18 奧地利 416 0 . 1 7 1 5 . 3 8 18 中國 150 0 . 1 8 2 8 . 0 0 19 奧地利 909 0 . 1 6 1 6 . 7 2 19 奧地利 578 0 . 1 4 1 8 . 8 6 19 丹麥 354 0 . 1

39、 5 2 5 . 7 1 19 香港 133 0 . 1 6 2 4 . 8 1 20 香港 586 0 . 1 0 1 0 . 9 2 20 香港 461 0 . 1 2 1 4 . 5 3 20 香港 353 0 . 1 5 1 5 . 5 8 20 奧地利 117 0 . 1 4 2 7 . 3 5 20021999 2000 2001 25 國家 國家 專利數(shù) 現(xiàn)行衝擊指數(shù) 專利強度 專利數(shù) 現(xiàn)行衝擊指數(shù) 專利強度 PN C I I PS PN C I I PS 美國 8 6 ,9 7 2 1 .1 6 1 0 0 ,7 4 0 美國 8 7 ,9 0 1 1 .1 8 1 0 3 ,

40、5 2 8 日本 3 4 ,8 5 9 0 .9 1 3 1 ,8 5 6 日本 3 5 ,5 1 7 0 .8 9 3 1 ,6 2 5 德國 1 1 ,2 8 0 0 .6 2 6 ,9 3 9 德國 1 1 ,4 4 4 0 .6 1 6 ,9 9 0 臺灣 5 ,4 3 1 1 .0 0 5 ,4 3 3 臺灣 5 ,2 9 8 0 .8 8 4 ,6 7 6 南韓 3 ,7 8 6 0 .8 2 3 ,1 0 6 加拿大 3 ,4 2 6 0 .9 2 3 ,1 5 1 加拿大 3 ,4 3 1 0 .8 8 3 ,0 2 8 南韓 3 ,9 4 4 0 .7 9 3 ,1 0 8

41、英國 3 ,8 3 7 0 .7 4 2 ,8 3 3 英國 3 ,6 2 7 0 .7 6 2 ,7 4 2 法國 4 ,0 3 5 0 .6 4 2 ,5 6 9 法國 3 ,8 6 9 0 .6 1 2 ,3 6 3 瑞典 1 ,6 7 5 0 .7 6 1 ,2 7 4 以色列 1 ,1 9 3 1 .1 5 1 ,3 7 4 以色列 1 ,0 4 0 1 .0 8 1 ,1 2 1 瑞典 1 ,5 2 1 0 .8 0 1 ,2 1 8 義大利 1 ,7 5 0 0 .5 5 959 義大利 1 ,7 2 2 0 .5 4 922 荷蘭 1 ,3 9 1 0 .6 6 923 荷蘭

42、1 ,3 2 5 0 .6 6 880 瑞士 1 ,3 6 4 0 .5 7 772 芬蘭 865 0 .9 1 784 芬蘭 809 0 .9 4 759 瑞士 1 ,3 0 8 0 .5 4 705 新加坡 410 1 .6 4 672 澳洲 900 0 .7 7 696 澳洲 859 0 .7 8 666 新加坡 427 1 .4 8 631 註 1 . 專利所屬國別係以 U SP T O 定義以第一個發(fā)明人之國別為認(rèn)定標(biāo)準(zhǔn)。 2 .2 0 0 3 年的現(xiàn)行衝擊指數(shù)（ c u rr e n t i m p a c t i n d e x ) 為各國前五年（ 1 9 9 8 -2 0 0

43、2 年）之專利被 2003 年引用頻率 相對整體平均引用次數(shù)比值的加權(quán)平均值。 3 . 後期衝擊指數(shù)係為各國專利平均被引證次數(shù)相對整體專利平均被引證次數(shù)之比值。 資料來源： U SP T O 資料庫，臺經(jīng)院計算整理。 2002 年 2003 年 技術(shù)創(chuàng)新的品質(zhì) 發(fā)明型專利 CII Rank4 因半導(dǎo)體製程技術(shù)專利 的減少，使得 CII下降 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -國家技術(shù)創(chuàng)新品質(zhì) 26 技術(shù)創(chuàng)新的參考來源 單位： 年 總計 美國 臺灣 日本 南韓 德國 加拿大 法國 英國 1991 1 0 0 .0 0 5 0 .1 9 1 6 .3 4 1 6 .9 9 0 .5 8 4 .0 2 1 .

44、9 5 1 .6 9 1 .7 9 1996 1 0 0 .0 0 4 3 .4 6 2 4 .2 6 1 8 .1 3 4 .0 2 2 .6 7 1 .8 3 1 .0 7 1 .0 5 1998 1 0 0 .0 0 4 3 .4 8 2 3 .9 1 1 7 .9 5 5 .8 6 1 .7 7 1 .4 3 1 .0 2 0 .8 3 2000 1 0 0 .0 0 4 3 .1 9 2 9 .6 2 1 5 .3 2 4 .2 6 1 .6 9 0 .9 6 0 .9 3 0 .6 6 2002 1 0 0 .0 0 4 4 .6 4 2 8 .2 7 1 4 .5 2 3 .8

45、2 1 .7 4 1 .0 6 1 .0 2 0 .6 9 2003 1 0 0 .0 0 4 4 .8 4 2 7 .7 3 1 4 .6 5 3 .4 5 1 .9 4 1 .1 9 0 .8 3 0 .7 6 註：表中各年臺灣專利引用來源國別分析，係以各年臺灣在美國核準(zhǔn)專利，其引證前五年各國專利 次 數(shù)分佈 為 分析基礎(chǔ)。 資料來源：臺灣經(jīng)濟 研 究院（2 0 0 3 ） 表1 1 臺灣在美國發(fā)明型專利引用來源分析- 以引用前五年專利次數(shù)為基礎(chǔ) 臺灣專利技術(shù)的知識學(xué)習(xí)來源，主要為美國，約重引用次數(shù)的 45， 其次為臺灣（ 28）、日本（ 15）。 臺灣因自我技術(shù)的建立，專利數(shù)大幅上升，因

46、此，自我引用比重也相對上升。 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -國家創(chuàng)新知識流動 27 各產(chǎn)業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新表現(xiàn) 資料來源：臺灣經(jīng)濟研究院（ 2004) 臺灣在 29個產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)明型專利核準(zhǔn)件數(shù)的變化 （ 1996-1999 vs. 2000-2003) 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新能量 0 500 1000 1500 2000 2500 3000 3500 4000 4500 5000 En v i r o n m e n t a l t e c h n o l o g y O r g a n i c f i n e c h e m i s t r y M a c r o m o l e c

47、u l a r c h e m i s t r y , p o l y m e r s Ph a r m a c e u t i c s , c o s m e t i c s B i o t e c h n o l o g y A g r i c u l t u r a l & f o o d p r o c e s s i n g m a c h i n e r y & a p p a r a t u s A g r i c u l t u r e , f o o d c h e m i s t r y O p t i c s A n a l y s i s , m e a s u r e

48、 m e n t , c o n t r o l t e c h n o l o g y M e d i c a l t e c h n o l o g y C h e m i c a l e n g i n e e r i n g C h e m i c a l i n d u s t r y , p e t r o l i n d u s t r y ,b a s i c m a t e r i a l s c h e m i s t r y M a t e r i a l s p r o c e s s i n g , t e x t i l e s p a p e r M a c h

49、i n e t o o l s M e c h a n i c a l e l e m e n t sH a n d l i n g , p r i n t i n g En g i n e s , p u m p s , t u r b i n e s N u c l e a r e n g i n e e r i n g M a t e r i a l s ,m e t a l l u r g y S u r f a c e t e c h n o l o g y , c o a t i n g T h e r m a l p r o c e s s e s a n d a p p a r

50、 a t u s T r a n s p o r t S p a c e t e c h n o l o g y , we a p o n s El e c t r i c a l d e v i c e s , e n g i n e e r i n g & e n e r g y S e m i c o n d u c t o r s I n f o r m a t i o n t e c h n o l o g y T e l e c o m m u n i c a t i o n s A u d i o - v i s u a l t e c h n o l o g y C o n s

51、 u m e r g o o d s a n d e q u i p m e n t 1 9 9 6 - 1 9 9 9 2 0 0 0 - 2 0 0 3 28 技術(shù)集中度之檢視 主要國家專利技術(shù)之集中度（ A d j u s t e d H e rfi n d a h l I n d e x ) （以 U S P T O 之發(fā)明型專利為基礎(chǔ)） 0 0 . 0 1 0 . 0 2 0 . 0 3 0 . 0 4 0 . 0 5 0 . 0 6 0 . 0 7 1981 1982 1983 1984 1985 1986 1987 1988 1989 1990 1991 1992 1993 19

52、94 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 U S A JP TW KR F I N SE FR GB IL DE 資料來源：林秀英 (2004) 臺灣專利過度集中在某幾個領(lǐng)域的情況， 在 2002-2003年獲得 改善，顯示技術(shù)朝更多角化發(fā)展。 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -技術(shù)領(lǐng)域創(chuàng)新能量 29 各國在半導(dǎo)體製程領(lǐng)域?qū)＠芰孔兓?單位：件， 件數(shù) 年平均 成長率 件數(shù) 年平均 成長率 件數(shù) 年平 均成 長率 件數(shù) 年平均 成長率 件數(shù) 年平均成 長率 總計 4 3 , 1 5 9 1 1 . 3 3 5 2 , 4 0 7 1 3 . 0 9

53、 2 , 5 6 2 8 . 6 6 2 4 , 0 9 0 1 0 . 8 0 348 -1 6 . 5 1 美國 1 9 , 1 2 3 1 1 . 6 9 6 , 4 7 4 1 3 . 4 2 1 , 7 1 7 7 . 5 4 1 0 , 7 5 6 1 1 . 8 8 176 -1 7 . 8 2 日本 1 1 , 9 8 9 1 0 . 2 0 6 , 1 3 0 1 1 . 0 4 439 -0 . 4 1 5 , 3 1 1 1 0 . 7 5 109 -1 8 . 1 0 臺灣 5 , 2 8 1 4 . 6 8 1 , 1 6 2 1 7 . 0 4 51 1 1 . 9

54、 6 4 , 0 6 8 0 . 3 3 0 - 南韓 3 , 0 4 0 1 0 . 3 1 918 7 . 3 5 84 2 2 . 4 7 2 , 0 3 5 1 1 . 7 5 3 -1 0 0 . 0 0 德國 1 , 0 7 2 2 4 . 7 9 485 2 6 . 0 6 60 3 5 . 7 9 503 2 3 . 0 8 24 0 . 0 0 新加坡 528 4 2 . 9 6 92 4 8 . 4 6 5 - 431 4 0 . 7 6 法國 431 1 5 . 9 8 166 1 2 . 4 7 34 4 9 . 5 3 225 1 5 . 8 3 6 1 8 . 9

55、2 義大利 414 8 . 2 1 174 9 . 4 2 27 1 0 . 6 7 213 6 . 4 8 註：專利分類係採 ori gina l c las s ic if ic at ion ，領(lǐng)域別的專利碼參考 J af f e & T raj t enber g (200 2) 分類定義。 資料來源： U SP T O ，臺灣經(jīng)濟 研 究院計算。 超導(dǎo)技術(shù) ( 設(shè)備、材 料及程序） 半導(dǎo)體元件合計 主動固態(tài)元件 電子數(shù)位邏輯 電路 半導(dǎo)體元件製造 ( 程序 ) 主要國家在美國 1 9 9 9 -2 0 0 3 年獲得半導(dǎo)體元件類之專利核準(zhǔn)數(shù)合計 U P C 2 5 7 U P C 3

56、 2 6 U P C 4 3 8 U P C 5 0 5 在半導(dǎo)體元件類專利，臺灣以 UPC 438 半導(dǎo)體製程專利最多，約佔八成， 但近二年來減少幅度達 20-30。相對地，在 UPC 257主動固態(tài)元件專利則 持續(xù)增加，增幅接近二成。 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -新興技術(shù)領(lǐng)域創(chuàng)新能量 30 主要國家在 LCD領(lǐng)域之專利能量之變化趨勢 主要國家在美國L CD 類專利核準(zhǔn)數(shù) 300 800 1300 1800 2300 2800 3300 3800 1981 1982 1983 1984 1985 1986 1987 1988 1989 1990 1991 1992 1993 1994 1995

57、 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 JP US 0 50 100 150 200 250 300 350 400 1981 1982 1983 1984 1985 1986 1987 1988 1989 1990 1991 1992 1993 1994 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 KR DE GB TW CA FR BE IL NL CH IT SE AU 臺灣 美國 南韓 日本 德國 英國 資料來源： USPTO，臺灣經(jīng)濟研究院（ 2004) 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -新興技術(shù)領(lǐng)域創(chuàng)新

58、能量 31 南韓與臺灣在 1 9 9 9 - 2 0 0 3 年美國獲得之 L C D 領(lǐng)域?qū)＠?shù) 0 50 100 150 200 250 300 350 400 450 500 349 356 359 382 399 430 KR TW 液晶單元、元件及系統(tǒng) 化學(xué)輻射顯 像：製程、組 成或 產(chǎn) 品 電子攝影 影像分析 光學(xué)：量測與測 試 光學(xué)：系統(tǒng)與元件 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -新興技術(shù)領(lǐng)域創(chuàng)新能量 32 31 32 33 39 醫(yī)藥類 醫(yī)學(xué)器材類 生物科技類 其他 D rug Sur gery & M edic al I ns t rum ent s Biot ec hnol ogy

59、 M is c ella neous 件數(shù) 年平均成長率 總計 42, 562 36, 561 25, 427 7, 806 112, 356 0. 15 美國 24, 703 26, 662 17, 110 5, 111 73, 586 -0. 70 日本 3, 638 2, 356 1, 939 571 8, 504 -0. 55 德國 2, 954 1, 557 1, 111 496 6, 118 3. 53 法國 2, 388 630 735 266 4, 019 0. 85 英國 2, 280 711 887 133 4, 011 -3. 22 加拿大 1, 245 550 783

60、120 2, 698 0. 33 瑞典 492 667 194 99 1, 452 5. 66 以色列 434 620 191 111 1, 356 10. 86 義大利 706 302 132 131 1, 271 0. 23 瑞士 510 492 434 422 343 0. 65 荷蘭 309 356 354 56 1, 075 -5. 18 丹麥 422 191 377 24 1, 014 -0. 14 澳洲 343 302 234 57 936 0. 47 南韓 277 157 159 47 640 14. 24 臺灣 132 262 102 140 636 9. 68 比利時 30

61、4 72 233 23 632 -1. 25 印度 239 13 90 11 353 37. 08 芬蘭 112 119 88 20 339 0. 00 奧地利 115 72 91 58 336 3. 34 西班牙 148 38 42 18 246 2. 47 註：專利分類係採 ori gina l c las s ic if ic at ion ，領(lǐng)域別的專利碼參考 J af f e & T raj t enber g (200 2) 分類定義。 資料來源： U SP T O ，臺灣經(jīng)濟 研 究院計算。 主要國家在美國 1 9 9 9 -2 0 0 3 年獲得醫(yī)學(xué)醫(yī)藥類 (D r u g &

62、 M e d i c a l ) 之專利核準(zhǔn)數(shù)合計 SU M 醫(yī)學(xué)醫(yī)藥類合計 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -新興技術(shù)領(lǐng)域創(chuàng)新能量 33 創(chuàng)新系統(tǒng)各角色的專利表現(xiàn) 資料來源：林秀英 (2004) 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -NIS成員技術(shù)創(chuàng)新能量 34 T h e ch a n g e in sh a r e o f P C a sse m b lers in p a te n t a p p li ca tio n 0.25 0.3 0.35 0.4 0.45 0.5 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 CPU Memory Disk Display 業(yè)者間創(chuàng)新角

63、色的轉(zhuǎn)換 全球主要十家 PC組裝業(yè)者對於各模組的專利申請比重 圖中的結(jié)果顯示在 90年代組裝業(yè)者申請關(guān)鍵模組專利大幅減少。這表示 關(guān)鍵模組技術(shù)的開發(fā)已經(jīng)轉(zhuǎn)由模組供應(yīng)商接手 資料來源： Kodama(2003) 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -產(chǎn)業(yè)中創(chuàng)新主角之地位轉(zhuǎn)換 - 35 臺灣學(xué)研官部門在美國獲得之專利數(shù) 研 究機構(gòu) 1999 2000 2001 2002 2003 工研院 204 193 211 220 211 中科院 6 11 9 18 18 資策會 1 3 1 14 5 食品 研 究所 2 3 7 6 4 核能 研 究所 2 1 1 3 1 金屬中心 0 1 3 0 0 生技中心 6 5

64、9 1 2 紡織中心 4 2 3 0 2 鞋技中心 0 0 0 1 1 製藥工業(yè)科技發(fā)展中心 3 1 精密機械 研 究發(fā)展中心 2 1 中 研 院 4 4 15 14 14 國科會 74 65 78 52 25 精密儀器中心 ( 國科會） 2 2 2 成功大學(xué) 3 0 臺灣大學(xué) 1 2 清 華大學(xué) 1 1 0 0 雲(yún)林科技大學(xué) 3 師範(fàn)大學(xué) 2 中央大學(xué) 2 元智大學(xué) 1 逢甲大學(xué) 1 中國醫(yī)藥大學(xué) 1 高雄醫(yī)學(xué)大學(xué) 2 交通大學(xué) 2 陽明醫(yī)學(xué)院 1 亞東技術(shù)學(xué)院 1 註： 本表係以專利權(quán)人 為 計算基礎(chǔ)，非以第一發(fā)明人 為 認(rèn)定基礎(chǔ)。 資料來源： U S P TO ，臺經(jīng)院計算。 臺灣研究機

65、構(gòu) / 大學(xué)在美國專利獲得數(shù)比較 在學(xué)研官部門的專利表現(xiàn)中， 以工研院表現(xiàn)最佳， 2003年在 美國獲得 211件專利，國內(nèi)排 名第三，全球排名第 72名， 高於日本 AIST(37件）、 澳洲 CSIRO(25件）、德國 FRAUNHOFER(80件 )、韓國 KAIST(59件 ) 、 KIST(38件 )， 表現(xiàn)出色。 1999年開始實施科學(xué)基本法後， 專利權(quán)下放給各機構(gòu)與大學(xué)。 工研院專利持續(xù)表現(xiàn)亮麗，但 國科會專利數(shù)明顯減少，以大 學(xué)為名義的專利數(shù)在 2003年 逐漸上升，但國科會與大學(xué)名 義合計專利數(shù)仍呈下降趨勢。 三、創(chuàng)新能力衡量之應(yīng)用 -NIS成員技術(shù)創(chuàng)新能量 36 全球最具影

66、響力之專利 -臺灣企業(yè)與經(jīng)濟部科專計畫的表現(xiàn) 總計畫名稱 專利核準(zhǔn)年 件數(shù) 次微米製程技術(shù)發(fā)展五年計畫 1992 1995 25 深次微米技術(shù)發(fā)展五年計畫 1997 1999 15 微電子零組件技術(shù)發(fā)展四年計畫 1992 1996 10 通訊電子技術(shù)發(fā)展第二期五年計畫 1995 1998 7 資訊系統(tǒng)平臺技術(shù)發(fā)展五年計畫 1999 2000 7 光資訊系統(tǒng)技術(shù)發(fā)展五年計畫 1997 1998 6 分散式資訊處理技術(shù)發(fā)展五年計畫 1994 1995 5 無線通訊技術(shù)發(fā)展第二期五年計畫 2000 2001 4 電子系統(tǒng)構(gòu)裝技術(shù)發(fā)展五年計畫 1993 1999 4 前瞻性資訊與通訊技術(shù) 研 究五年計畫 1999 2000 3 高畫質(zhì)視訊技術(shù)發(fā)展五年計畫 1993 1996 3 深次微米設(shè)備及智權(quán)維護特具計畫 2000 3 微電子系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)發(fā)展四年計畫 1997 1998 3 平面顯示技術(shù)發(fā)展四年計畫 1996 1997 2 平面顯示關(guān)鍵技術(shù)發(fā)展六年計畫 2000 2001 2 智慧型資訊系統(tǒng)技術(shù)發(fā)展五年計畫 2001 2 微電子技術(shù)發(fā)展四年計畫 1991 2 微電子系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)三年計畫 2