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2010–2011學(xué)年第一學(xué)期期末考試試卷(A卷)
開(kāi)課學(xué)院:物電學(xué)院 課程名稱:半導(dǎo)體物理學(xué) 考試形式:閉卷,所需時(shí)間:120分鐘
題號(hào)
一
二
三
四
五
六
七
八
總 分
得分
評(píng)卷人
注意事項(xiàng):1、教師出題時(shí)請(qǐng)勿超出邊界虛線;
2、學(xué)生答題前將密封線外的內(nèi)容填寫(xiě)清楚,答題不得超出密封線;
3、答題請(qǐng)用藍(lán)、黑鋼筆或圓珠筆。
一、 填空題(共30分,每空1分)
1、半導(dǎo)體中有 電子 和 空穴 兩種載流子,而金屬
2、中只有 電子 一種載流子。
2、雜質(zhì)原子進(jìn)入材料體內(nèi)有很多情況,常見(jiàn)的有兩種,它們是 替代式 雜質(zhì)和間隙式
雜質(zhì)。
1、 3、根據(jù)量子統(tǒng)計(jì)理論,服從泡利不相容原理的電子遵從費(fèi)米統(tǒng)計(jì)率,對(duì)于能量為E的一個(gè)量子態(tài),被一個(gè)電子占據(jù)的概率為,表達(dá)式為 ,稱為電子的費(fèi)米分布函數(shù),它是描寫(xiě) 在熱平衡狀態(tài)下,電子在允許的量子態(tài)上如何分布
的一個(gè)統(tǒng)計(jì)分布函數(shù)。當(dāng)時(shí),費(fèi)米分布函數(shù)轉(zhuǎn)化為,表達(dá)式為
3、 ,稱為電子的玻爾茲曼分布函數(shù)。在時(shí),量子態(tài)被電子占據(jù)的概率很小,這正是玻爾茲曼分布函數(shù)適用的范圍。費(fèi)米統(tǒng)計(jì)率與玻爾茲曼統(tǒng)計(jì)率的主要差別在于 前者受泡利不相容原理的限制
,而在的條件下,該原理失去作用,因而兩種統(tǒng)計(jì)的結(jié)果變成一樣了。
4、在一定溫度下,當(dāng)沒(méi)有光照時(shí),一塊n型半導(dǎo)體中, 電子 為多數(shù)載流子, 空穴 是少數(shù)載流子,電子和空穴的濃度分別為和,則和的關(guān)系為 大于 ,當(dāng)用(該半導(dǎo)體禁帶寬度)的光照射該半導(dǎo)體時(shí),光子就能把價(jià)帶電
4、子激發(fā)到導(dǎo)帶上去,此時(shí)會(huì)產(chǎn)生 電子空穴對(duì) ,使導(dǎo)帶比平衡時(shí)多出一部分電子,價(jià)帶比平衡時(shí)多出一部分空穴,和的關(guān)系為 ,這時(shí)把非平衡電子稱為非平衡 多數(shù) 載流子,而把非平衡空穴稱為非平衡 少數(shù) 載流子。在一般小注入情況下,在半導(dǎo)體材料中,非平衡 多數(shù) 載流子帶來(lái)的影響可忽略,原因是 注入的非平衡多數(shù)載流子濃度比平衡時(shí)的多數(shù)載流子濃度小得多
,而非平衡 少數(shù) 載流子
5、卻往往起著重要作用,原因是
2、 注入的非平衡少數(shù)載流子濃度比平衡時(shí)的少數(shù)載流子濃度大得多
。
5、非平衡載流子的復(fù)合,就復(fù)合的微觀機(jī)構(gòu)講,大致可分為兩種,直接復(fù)合和間接復(fù)合,直接復(fù)合是指 電子在導(dǎo)帶和價(jià)帶之間的直接躍遷,引起電子和空穴的直接復(fù)合 ,間接復(fù)合是指 電子和空穴通過(guò)禁帶的能級(jí)(復(fù)合中心)進(jìn)行復(fù)
6、合 。載流子在復(fù)合時(shí),一定要釋放出多余的能量,放出能量的方法有三種,分別為 、 、
3、 發(fā)射光子 發(fā)射聲子 將能量給予其它載流子,增加它們的動(dòng)能
。
6、在外加電場(chǎng)和光照作用下,使均勻摻雜的半導(dǎo)體中存在平衡載流子和非平衡載流子,由于 半導(dǎo)體表面非平衡載流子濃度比內(nèi)部高 ,從而非平衡載流子在半導(dǎo)體中作 運(yùn)動(dòng),從
7、而形成 電流,另外,由于外加電場(chǎng)的作用,半導(dǎo)體中的所有載流子會(huì)作
運(yùn)動(dòng),從而形成 電流。
二、 選擇題(共10分,每題2分)
1、本征半導(dǎo)體是指 的半導(dǎo)體。
A、不含雜質(zhì)和缺陷 B、電子密度與空穴密度相等
C、電阻率最高 D、電子密度與本征載流子密度相等
2、在Si材料中摻入P,則引入的雜質(zhì)能級(jí)
A、在禁帶中線處 B、靠近導(dǎo)帶底 C、靠近價(jià)帶頂 D、以上都不是
3、以下說(shuō)法不正確的是
A、價(jià)帶電子激
8、發(fā)成為導(dǎo)帶電子的過(guò)程,稱為本征激發(fā)。
B、本征激發(fā)后,形成了導(dǎo)帶電子和價(jià)帶空穴,在外電場(chǎng)作用下,它們都將參與導(dǎo)電。
C、電子可以從高能量的量子態(tài)躍遷到低能量的量子態(tài),并向晶格釋放能量。
D、處于熱平衡狀態(tài)下的導(dǎo)電電子和空穴稱為熱載流子。
4、以下說(shuō)法不正確的是
A、對(duì)n型半導(dǎo)體,隨著施主濃度ND的增加,費(fèi)米能級(jí)EF從禁帶中線逐漸向?qū)У追较蚩拷?
B、對(duì)p型半導(dǎo)體,隨著受主濃度NA的增加,費(fèi)米能級(jí)EF從禁帶中線逐漸向價(jià)帶頂方向靠近。
C、雜質(zhì)半導(dǎo)體中載流子濃度和費(fèi)米能級(jí)EF的位置由雜質(zhì)濃度所決定,與溫度無(wú)關(guān)。
D、在雜質(zhì)半導(dǎo)體中,費(fèi)米能級(jí)EF的位置不但反映了半導(dǎo)體的
9、導(dǎo)電類型,而且還反映了半導(dǎo)體的摻雜水平。
5、關(guān)于電中性方程,說(shuō)法不正確的是
A、這是含有一種施主雜質(zhì)和一種受主雜質(zhì)情況下的電中性條件。
B、它的意義是半導(dǎo)體中單位體積內(nèi)帶正電的空穴數(shù)等于單位體積中帶負(fù)電的電子數(shù)。
C、半導(dǎo)體中荷電的包括導(dǎo)帶電子、價(jià)帶空穴、電離施主和電離受主。
D、該條件下,宏觀狀態(tài)表現(xiàn)為半導(dǎo)體不顯電性。
三、計(jì)算題(共60分)
1、(1)試說(shuō)明在室溫下,某半導(dǎo)體的電子濃度時(shí),其電導(dǎo)率為最小值。式中是本征載流子濃度,分別為空穴和電子的遷移率。試求在上面條件時(shí)的空穴濃度和電子濃度。
(2)當(dāng)時(shí),試求Ge的本征電導(dǎo)率和最小電導(dǎo)率。
(3)試問(wèn)當(dāng)和
10、(除了時(shí))為何值時(shí),該Ge材料的電導(dǎo)率等于本征電導(dǎo)率? (本題20分)
一、 解:(1)因?yàn)?,又,所?
根據(jù)不等式的性質(zhì),當(dāng)且僅當(dāng)=時(shí),上式取等。
解得:,即此時(shí)電導(dǎo)率最小。
相應(yīng)地,此時(shí)
(2)對(duì)本征Ge:
在最小電導(dǎo)率條件下:
(3)當(dāng)材料的電導(dǎo)率等于本征電導(dǎo)率時(shí),有:
即:
整理得:
解得:
帶入數(shù)據(jù)得:
∴
顯然,此材料是p型材料。
11、
2、 設(shè)空穴濃度是線性分布,在3μm內(nèi)濃度差為1015cm-3,。試計(jì)算空穴擴(kuò)散電流密度。(室溫下)
(本題10分)
空穴擴(kuò)散電流密度:
由題意,空穴線性分布,且在3μm內(nèi)濃度差為1015cm-3,則空穴的濃度梯度為:
根據(jù)愛(ài)因斯坦關(guān)系式:
∴
3、施主濃度的n型硅,室溫下的功函數(shù)是多少?若不考慮表面態(tài)的影響,它分別同Al,Au接觸時(shí),形成阻擋層還是反阻擋層?(對(duì)硅:電子親和能取4.05eV,
;功函數(shù):,)
12、 (本題10分)
4、一單晶硅中均勻地?fù)饺肴缦码s質(zhì):摻磷,摻硼。試計(jì)算:
(1)室溫下載流子濃度和費(fèi)米能級(jí)的位置。
(2)室溫下的電導(dǎo)率。
(3)T=600K時(shí)的載流子濃度。
已知:室溫下,本征載流子濃度=,電子遷移率=,空穴遷移率=,電子電荷=,600K下的本征載流子濃度=。 () (本題20分)
(1)令和表示電離施主和電離受主的濃度,則電中性方程為 (I)
室溫下,半導(dǎo)體處于過(guò)渡區(qū),雜質(zhì)已全部電離,,,代入(I)式整理得:
(II)
又 (
13、III), (IV),聯(lián)立(II)、(III)、(IV)式可解得:
即此時(shí)費(fèi)米能級(jí)在禁帶中線上面0.35eV處。
(2)電導(dǎo)率
由于,故可忽略空穴對(duì)電流的作用,即此時(shí)
(3)T=600k時(shí),半導(dǎo)體處于本征激發(fā)區(qū),本征激發(fā)開(kāi)始起主要作用。此時(shí),雜質(zhì)已全部電離,(II)、(III)式仍然成立。
該溫度下 (V)
聯(lián)立(II)、(III)、(V)式解得:
專心---專注---專業(yè)