政府采購(gòu)進(jìn)口產(chǎn)品專家論證意見

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1、 政府采購(gòu)進(jìn)口產(chǎn)品專家論證意見 一、基本情況 申請(qǐng)單位 鄭州輕工業(yè)學(xué)院 擬采購(gòu)產(chǎn)品名稱 光譜采集分析系統(tǒng) 擬采購(gòu)產(chǎn)品金額 采購(gòu)項(xiàng)目所屬項(xiàng)目名稱 學(xué)科建設(shè) 采購(gòu)項(xiàng)目所屬項(xiàng)目金額 二、申請(qǐng)理由 1.中國(guó)境內(nèi)無(wú)法獲?。? □ 2.無(wú)法以合理的商業(yè)條件獲取： □ 3.其他。 原因闡述： 光譜采集分析系統(tǒng)屬于全自動(dòng)、高精度、多功能信號(hào)探測(cè)處理設(shè)備，具有快速精確，靈敏度高探測(cè)性能，且具有較寬光譜范圍，可實(shí)現(xiàn)適用于長(zhǎng)時(shí)間積分，也適用于超快探測(cè)模式。因此即可用于諸如拉曼光譜、熒光光譜以及反射光譜等領(lǐng)域光譜分析也可用于快速變化過(guò)程的動(dòng)力學(xué)研究。該設(shè)備適用于物理、光學(xué)、材料

2、、及化學(xué)等領(lǐng)域，主要用于不同待測(cè)樣品時(shí)其光譜的檢測(cè)和采集，分析材料的特性，可對(duì)鄭州輕工業(yè)學(xué)院凝聚態(tài)物理學(xué)科的建設(shè)和發(fā)展起到重要的推動(dòng)作用，同時(shí)也可為我校材化學(xué)院的博士點(diǎn)建設(shè)提供有力支持。 目前省內(nèi)高校均為購(gòu)置成熟的成套光譜設(shè)備，如拉曼光譜儀、紅外光譜儀等，不能根據(jù)科研需要改變相應(yīng)的實(shí)驗(yàn)條件，如變溫變壓等。購(gòu)買光譜儀組件根據(jù)需要自行搭建相關(guān)光譜測(cè)試系統(tǒng)，是目前科研設(shè)備發(fā)展的方向，也為創(chuàng)新性實(shí)驗(yàn)結(jié)果提供設(shè)備保障。 目前國(guó)內(nèi)生產(chǎn)的光譜采集探測(cè)系統(tǒng)精度較低，穩(wěn)定性較差；國(guó)內(nèi)生產(chǎn)的激光器壽命較短，性能不穩(wěn)定，不能滿足我校承擔(dān)的國(guó)家級(jí)科研課題需要。滿足相應(yīng)指標(biāo)的光譜采集探測(cè)系統(tǒng)無(wú)法從中國(guó)境內(nèi)獲取。特此

3、申請(qǐng)購(gòu)買該類進(jìn)口設(shè)備。 三、專家論證意見 技術(shù)專家信息： 李良彬 中國(guó)科技大學(xué) 教授 13225691098 技術(shù)專家意見： 光譜儀是光物理、光化學(xué)、生物物理和材料學(xué)交叉學(xué)科研究必不可少的強(qiáng)大工具，根據(jù)實(shí)驗(yàn)條件自行搭建光譜儀是一大亮點(diǎn)，國(guó)產(chǎn)光譜儀存在精度不高，性能不穩(wěn)定的缺點(diǎn)，建議購(gòu)買進(jìn)口設(shè)備。 技術(shù)專家信息： 方亞鵬 湖北工業(yè)大學(xué) 教授 15871385096 技術(shù)專家意見：目前國(guó)產(chǎn)光譜儀的空間分辨率和光譜分辨率都不高，無(wú)法滿足科研的需求，建議購(gòu)買進(jìn)口設(shè)備。 技術(shù)專家信息： 梁二軍 鄭州大學(xué) 教授 138371

4、26869 技術(shù)專家意見：進(jìn)口光譜儀可同時(shí)具備超高的成像質(zhì)量和效率以及較好的靈活性，而國(guó)產(chǎn)儀器的精度、參數(shù)、性能均無(wú)法滿足，建議購(gòu)買進(jìn)口設(shè)備。 技術(shù)專家信息： 晁明舉 鄭州大學(xué) 教授 13598866672 技術(shù)專家意見： 進(jìn)口光譜采集分析系統(tǒng)擁有先進(jìn)的光學(xué)設(shè)計(jì)，分辨率較高，可滿足從紫外到近紅外范圍內(nèi)的高分辨率光譜采集，提供更多的科研數(shù)據(jù)，建議購(gòu)買進(jìn)口設(shè)備。 法律專家信息： 曾俊偉 河南豫都律師事務(wù)所 律師 13014503118 法律專家意見：此次申請(qǐng)購(gòu)買進(jìn)口設(shè)備符合我國(guó)相關(guān)政策規(guī)定，同時(shí)該光譜采集分析系統(tǒng)不屬于限制進(jìn)口產(chǎn)品，不違背國(guó)家產(chǎn)業(yè)

5、政策，建議同意采購(gòu)該類進(jìn)口儀器。 《光譜采集分析系統(tǒng)》儀器設(shè)備論證專家名單 姓名 單位 技術(shù)職稱 聯(lián)系電話（手機(jī)） 備注 李良彬 中國(guó)科技大學(xué) 教授 13225691098 技術(shù)專家 方亞鵬 湖北工業(yè)大學(xué) 教授 15871385096 技術(shù)專家 梁二軍 鄭州大學(xué) 教授 13837126869 技術(shù)專家 晁明舉 鄭州大學(xué) 教授 13598866672 技術(shù)專家 曾俊偉 河南豫都律師事務(wù)所 律師 13014503118 法律專家 光譜采集分析系統(tǒng)技術(shù)參數(shù) 光譜采集分析系統(tǒng) 光譜儀

6、 焦長(zhǎng) 320mm 數(shù)值孔徑 f/4.6 掃描范圍 0-1400nm 線色散倒數(shù) 2.38nm/mm 波長(zhǎng)精度 ±0.2nm 復(fù)位精度 ±0.05nm 步長(zhǎng) 0.005nm 狹縫 10μm-3mm 電腦接口 USB 光柵 配備300、1200和1800刻線光柵，其CCD分辨率分別為0.304、0.07、0.042nm CCD探測(cè)器 暗電流 0.8 讀出噪聲 3 e- rms (typical), 4 e- rms (maximum)@100kHz 6 e- rms (typical), 8 e- rms (maximum)

7、@2MHz 工作溫度 -120℃-室溫 CCD分辨率 1340 x 100 像面大小 26.8 x 2.0 mm ADC速率 50, 100, 200, 500 kHz and 1, 2, 4 MHz; 16 bits 非線性度 < 1% @ 100 kHz 垂直轉(zhuǎn)移時(shí)間 ≥ 6.67 msec/row (programmable) 模擬增益 1, 2, 4 e-/ADU (high sensitivity); 4, 8, 16 e-/ADU (high capacity) 認(rèn)證 CE 數(shù)據(jù)采集軟件 可安裝于64位Windows操作系統(tǒng)，界面友好 計(jì)

8、算機(jī) CPU G2020 2.9GHz 顯卡 獨(dú)立2GB DDR3顯卡 內(nèi)存 4GB DDR3 硬盤 1TB 7200轉(zhuǎn)/分 光驅(qū) DVD光驅(qū) 顯示器 液晶 18.5英寸以上 激光器1 工作波長(zhǎng) 375±5 nm 峰值功率 150mW 工作模式 連續(xù) 功率穩(wěn)定性 <1% 光束發(fā)散角 ~1 mrad 光束直徑 3 x 5 mm 激光器2 工作波長(zhǎng) 785±5 nm 峰值功率 200mW 工作模式 連續(xù) FWHM線寬 <0.3nm 功率穩(wěn)定性 <5% 帶通濾波片 中心波長(zhǎng) 375nm

9、 帶寬 6nm 平均透過(guò)率 90% 直徑 25mm 高通濾波片 截止波長(zhǎng) 415nm 平均透過(guò)率 > 93% 417 - 1100 nm 直徑 25mm 陷波濾波片 中心波長(zhǎng) 785nm 通光帶寬 350-1600nm 陷波帶寬 39nm OD >6 光學(xué)平臺(tái) 規(guī)格 2400*1200*800mm 螺孔 M6，陣距：25mm 臺(tái)板厚度 200mm 板面 不銹鋼 表3 政府采購(gòu)進(jìn)口產(chǎn)品專家論證意見 一、基本情況 申請(qǐng)單位 鄭州

10、輕工業(yè)學(xué)院 擬采購(gòu)產(chǎn)品名稱 正電子符合多普勒展寬譜儀測(cè)試系統(tǒng) 擬采購(gòu)產(chǎn)品金額 采購(gòu)項(xiàng)目所屬項(xiàng)目名稱 學(xué)科建設(shè) 采購(gòu)項(xiàng)目所屬項(xiàng)目金額 二、申請(qǐng)理由 1.中國(guó)境內(nèi)無(wú)法獲取： □ 2.無(wú)法以合理的商業(yè)條件獲?。? □ 3.其他。 原因闡述： 正電子湮沒譜對(duì)固體中原子尺度的缺陷研究和微結(jié)構(gòu)變化十分敏感，是其他手段無(wú)法比擬的。作為電子的反粒子，正電子容易鑒別，又能形成電子偶素，可以替代電子探針來(lái)獲得材料中更多的信息，已成為一種研究物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的新手段。我校已采購(gòu)正電子壽命譜儀，正電子符合多普勒展寬譜儀與正電子壽命譜儀的結(jié)合不僅能為凝聚態(tài)物理學(xué)科的提供重要的設(shè)備支撐，同時(shí)可

11、以更好地為物理化學(xué)、材料、生物等科研領(lǐng)域提供特色鮮明的實(shí)驗(yàn)測(cè)試手段，提升我校學(xué)科的學(xué)術(shù)水平。 我校本次申請(qǐng)采購(gòu)的美國(guó)ORTEC公司生產(chǎn)的正電子符合多普勒展寬譜儀測(cè)試系統(tǒng)性能優(yōu)良，且目前世界上只有美國(guó)ORTEC一家公司生產(chǎn)，該產(chǎn)品已在武漢大學(xué)，中國(guó)科技大學(xué)，中科院高能物理研究所，中科院金屬研究所，廣西大學(xué)等單位使用，反應(yīng)良好。國(guó)內(nèi)無(wú)此類產(chǎn)品及生產(chǎn)廠家。 正電子符合多普勒展寬譜儀測(cè)試系統(tǒng)的引進(jìn)，將使我校成為中原地區(qū)唯一一所擁有完備正電子湮沒技術(shù)的高等院校。該設(shè)備的引進(jìn)可以加強(qiáng)與國(guó)內(nèi)一流大學(xué)、科研院所之間的交流與合作，有利于學(xué)科人才的引進(jìn)與培養(yǎng)，有利于促進(jìn)學(xué)科的建設(shè)與發(fā)展。結(jié)合正電子技術(shù)對(duì)金屬、

12、半導(dǎo)體材料檢測(cè)優(yōu)勢(shì)，可以與企業(yè)聯(lián)合實(shí)現(xiàn)產(chǎn)學(xué)研的有效結(jié)合，促進(jìn)科研成果的轉(zhuǎn)化。 無(wú)該設(shè)備將直接影響我校材料物理相關(guān)科研工作的進(jìn)展，急需購(gòu)置。 三、專家論證意見 技術(shù)專家信息：陳志權(quán) 武漢大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院 教授 13986130578 技術(shù)專家意見：正電子技術(shù)已成為一種研究物質(zhì)微觀結(jié)構(gòu)的新手段。貴校已采購(gòu)正電子壽命譜儀，符合多普勒展寬譜儀與正電子壽命譜儀一起組成正電子測(cè)試系統(tǒng)，豐富測(cè)試內(nèi)容，更全面的開展正電子技術(shù)研究工作，提升貴校學(xué)科的學(xué)術(shù)水平。由于目前國(guó)內(nèi)無(wú)該類產(chǎn)品的生產(chǎn)廠家，世界上只有美國(guó)ORTEC一家公司生產(chǎn)。因此該套設(shè)備只能從國(guó)外進(jìn)口。 技術(shù)專家信息：吳奕初

13、武漢大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院 教授 18971627720 技術(shù)專家意見：符合多普勒展寬能譜測(cè)量是除壽命譜測(cè)量之外用的比較多的實(shí)驗(yàn)手段。它主要反映了電子的動(dòng)量分布，還可以反映價(jià)電子和芯電子處的缺陷信息，與壽命譜測(cè)試手段一起能更全面的測(cè)試固體材料內(nèi)部的缺陷信息。多普勒展寬譜儀測(cè)試系統(tǒng)的引進(jìn)，有利于促進(jìn)學(xué)科的建設(shè)與發(fā)展。目前國(guó)內(nèi)無(wú)相關(guān)類似產(chǎn)品生產(chǎn)廠家，只能從國(guó)外進(jìn)口。 技術(shù)專家信息：常方高 河南師范大學(xué)物理與信息工程學(xué)院 教授13782512771 技術(shù)專家意見：符合多普勒展寬譜儀與正電子壽命譜儀的結(jié)合可以保證同時(shí)測(cè)量正電子壽命和湮沒g多普勒展寬能譜信息，能更全面的反映正電子與不同

14、動(dòng)量電子發(fā)生湮沒的壽命關(guān)系結(jié)合正電子技術(shù)對(duì)金屬、半導(dǎo)體材料檢測(cè)優(yōu)勢(shì)，可以與企業(yè)聯(lián)合實(shí)現(xiàn)產(chǎn)學(xué)研的有效結(jié)合，促進(jìn)科研成果的轉(zhuǎn)化。目前世界上只有美國(guó)ORTEC一家公司生產(chǎn)，該套設(shè)備只能從國(guó)外進(jìn)口。 技術(shù)專家信息：李平林 鄭州大學(xué)物理工程學(xué)院 教授 18339813996 技術(shù)專家意見：利用正電子壽命譜儀與符合多普勒展寬譜儀同時(shí)測(cè)量正電子壽命和湮沒g多普勒展寬能譜信息，反映正電子與不同動(dòng)量電子發(fā)生湮沒的壽命關(guān)系，對(duì)研究電子偶素在材料中形成、熱化過(guò)程以及正電子素化學(xué)等十分重要。符合多普勒展寬譜儀與正電子壽命譜儀的結(jié)合不僅能為凝聚態(tài)物理學(xué)科的提供重要的設(shè)備支撐，同時(shí)可以更好地為物理化學(xué)、材料、

15、生物等科研領(lǐng)域提供特色鮮明的實(shí)驗(yàn)測(cè)試手段。目前該設(shè)備只有美國(guó)ORTEC一家公司生產(chǎn)，只能從國(guó)外進(jìn)口。 法律專家信息：曾俊偉 河南豫都律師事務(wù)所 律師 13014503118 法律專家意見：此次申請(qǐng)購(gòu)買進(jìn)口設(shè)備符合我國(guó)相關(guān)政策規(guī)定，同時(shí)該符合多普勒展寬譜儀不屬于限制進(jìn)口產(chǎn)品，不違背國(guó)家產(chǎn)業(yè)政策，建議同意采購(gòu)該類進(jìn)口儀器。 《正電子符合多普勒展寬譜儀》儀器設(shè)備論證專家名單 姓名 單位 技術(shù)職稱 聯(lián)系電話（手機(jī)） 備注 陳志權(quán) 武漢大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院 教授 13986130578 技術(shù)專家 吳奕初 武漢大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院 教授 18

16、971627720 技術(shù)專家 常方高 河南師范大學(xué)物理與信息工程學(xué)院 教授 13782512771 技術(shù)專家 李平林 鄭州大學(xué)物理工程學(xué)院 教授 18339813996 技術(shù)專家 曾俊偉 河南豫都律師事務(wù)所 律師 13014503118 法律專家 正電子符合多普勒展寬譜儀測(cè)試系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)及要求 技術(shù)要求 1. 主要用途 主要用于高分子材料缺陷、微觀物質(zhì)結(jié)構(gòu)、微觀電子動(dòng)量信息的研究。 2. 需求總則 2.1 實(shí)時(shí)、形象、真實(shí)地反映情況 2.2 運(yùn)行穩(wěn)定、維護(hù)及時(shí)快捷 2.3 系統(tǒng)操作簡(jiǎn)便、直觀、有較好的人機(jī)操作界面 2.4 支持?jǐn)?shù)據(jù)的接入、傳

17、輸、存儲(chǔ)、分析 3. 主要配置 3.1、BaF2探測(cè)器2個(gè) 3.2、放大器 1個(gè) 3.3、多參數(shù)測(cè)量板卡 1個(gè) 3.4、660雙路探測(cè)器偏壓 1個(gè) 3.5、4001A/4002D NIM機(jī)箱和160W電源 (提供 ±6 V, ±12 V, ±24 V) 1個(gè) 3.6、551時(shí)間單道分析器 2個(gè) 3.7、GEM25P4-PL 高純鍺探測(cè)器 2個(gè) 3.8、CFG-PH4 水平冷指 2個(gè) 3.9、DWR-30 30升液氮杜瓦瓶 2個(gè) 3.10、672 能譜放大器（內(nèi)置自動(dòng)極零功能） 2個(gè) 4

18、. 主要參數(shù) 4.1 BaF2 發(fā)光時(shí)間 時(shí)間分辨率190ps 4.2高純鍺探測(cè)器GEM25P4-PL 4.1.1 晶體類型：高純鍺 4.1.2 ★相對(duì)效率：≥25% 4.1.3 ★能量響應(yīng)范圍：不得小于40keV-10MeV 4.1.4 能量分辨率：對(duì)122keV：≤870eV；對(duì)1.332keV：≤1.85keV 4.1.5 ★封裝：POPTOP可拆卸探頭封裝。 4.2 雙路偏壓 4.2.1 0-5000V正負(fù)可調(diào) @ 0-100微安。 4.2.2 自帶高壓截止模塊 4.3 機(jī)箱供電電源 4.3.1 ±6V，±12V，±24V NI

19、M直流供電 4.3.2 6個(gè)標(biāo)準(zhǔn)NIM插槽 4.4 多參數(shù)獲取卡及配套軟件 4.4.1 PCI接口 4.4.2 2路輸入，最大輸入計(jì)數(shù)率130Ms/s 14位ADC 4.4.3 梯形濾波 4.4.4 全軟件控制1D，2D顯示 4.5 液氮制冷裝置 4.5.1 損耗率：≤0.7升/天 4.5.2 容量：≥30升 4.6 能譜放大器 4.6.1 放大倍數(shù) 1-1500倍可調(diào) 4.6.2 噪聲<5μV 4.6.3 可極零相消 政府采購(gòu)進(jìn)口產(chǎn)品專家論證意見 一、基本情況 申請(qǐng)單位 鄭州輕工業(yè)

20、學(xué)院 擬采購(gòu)產(chǎn)品名稱 X射線光電子能譜儀（XPS） 擬采購(gòu)產(chǎn)品金額 采購(gòu)項(xiàng)目所屬項(xiàng)目名稱 學(xué)科建設(shè) 采購(gòu)項(xiàng)目所屬項(xiàng)目金額 二、申請(qǐng)理由 1.中國(guó)境內(nèi)無(wú)法獲取： □ 2.無(wú)法以合理的商業(yè)條件獲?。? □ 3.其他。 原因闡述： 1. 必要性： X射線光電子能譜儀（下稱XPS）是廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)領(lǐng)域的高技術(shù)分析儀器，主要用于固體材料的表面（2～3nm深度）元素成分和價(jià)態(tài)的定性和定量分析。XPS與成像功能和離子濺射刻蝕相結(jié)合，可以用于固體表面元素成分及價(jià)態(tài)的面分布和深度剖析；與離子蒸鍍或其他分子束外延技術(shù)相結(jié)合，可以進(jìn)行原位樣品的制備及分析工作。XPS在各類功能薄

21、膜的機(jī)理研究、納米材料、高分子材料、材料的腐蝕與防護(hù)、催化劑研究與失效分析等方面具有不可替代的作用。 2. 科研方面需求： 目前我校及表界面科學(xué)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室承擔(dān)了多項(xiàng)國(guó)家級(jí)和省部級(jí)科研項(xiàng)目，如國(guó)家自然科學(xué)基金、河南省自然科學(xué)基金、河南省創(chuàng)新人才基金等研究課題包括聚合物材料、無(wú)機(jī)非金屬材料、納米材料、金屬材料、化學(xué)工程材料、薄膜材料等方面的研究，利用XPS進(jìn)行固體材料的表面元素成份及價(jià)態(tài)的定性、半定量分析，固體表面元素組成的深度剖析及成像，每年到外單位測(cè)試的樣品數(shù)量很大，花費(fèi)較高，且測(cè)試周期長(zhǎng)、嚴(yán)重影響了科研工作的正常進(jìn)行。XPS可應(yīng)用于金屬、無(wú)機(jī)材料、催化劑、聚合物、涂層材料礦石等各種材料的

22、研究，以及腐蝕、摩擦、潤(rùn)滑、粘接、催化、包覆、氧化等過(guò)程的研究。有關(guān)信息可以為進(jìn)一步剪裁，調(diào)控材料和器件的功能提供直接的依據(jù)。為設(shè)計(jì)功能更為強(qiáng)大，性能更為優(yōu)越，使用更為方便的新材料提供基礎(chǔ)。購(gòu)買該設(shè)備無(wú)疑對(duì)鄭州輕工業(yè)學(xué)院的教學(xué)和科研有重要的促進(jìn)作用，為我校進(jìn)一步穩(wěn)定和引進(jìn)高層次人才搭建先進(jìn)的科研平臺(tái)，創(chuàng)造良好的科研條件；這也與我表界面重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室目前正在開展和準(zhǔn)備開展的科研工作非常吻合，為下一步建設(shè)博士學(xué)位點(diǎn)，提高學(xué)校和我重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室的知名度，起到積極的推動(dòng)作用。 目前全球制造X射線光電子能譜儀的代表性廠家及其主要型號(hào)為：英國(guó)島津Kratos公司；美國(guó)賽默飛世爾科技；德國(guó)Omicron公司；日本

23、真空PHI公司，Quantera II的產(chǎn)品，它們性能優(yōu)越且操作簡(jiǎn)單方便，與功能強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理軟件相結(jié)合，可以用于材料表面分析，可獲得元素組分、化學(xué)狀態(tài)、面分布以及深度剖析等信息。綜上所述，為滿足教學(xué)、科研需要急需購(gòu)置1臺(tái)X射線光電子能譜儀。建議購(gòu)買該類進(jìn)口設(shè)備。 三、專家論證意見 技術(shù)專家信息：張書勝 鄭州大學(xué)化學(xué)系 教授 13513801442 技術(shù)專家意見：申請(qǐng)單位擬購(gòu)置的X射線光電子能譜儀系統(tǒng)用于材料表面分析，可獲得元素組分、化學(xué)狀態(tài)、面分布以及深度剖析信息。同時(shí)可以對(duì)樣品進(jìn)行加熱、制冷、氣固反應(yīng)、鍍膜等處理實(shí)現(xiàn)更廣泛分析和研究。開展高水平的研究工作需要高性能的設(shè)備平臺(tái)，建

24、議購(gòu)買該進(jìn)口設(shè)備。 技術(shù)專家信息：張國(guó)寶 河南省分析測(cè)試中心 研究員 13613813892 技術(shù)專家意見：該設(shè)備是廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)領(lǐng)域的高技術(shù)分析儀器，主要用于固體材料的表面（2～3nm深度）元素成分和價(jià)態(tài)的定性和定量分析。在現(xiàn)代科學(xué)與技術(shù)研究中，特別在高分子材料構(gòu)分析、各類功能薄膜的機(jī)理研究、納米材料分析、復(fù)合功能材料研究等方面，XPS往往是不可缺少的大型分析儀器。鑒于鄭州輕工業(yè)學(xué)院承擔(dān)了很多國(guó)家級(jí)科研項(xiàng)目，需要開展高水平的科研工作，建議購(gòu)買XPS。 技術(shù)專家信息：趙永德 河南化學(xué)研究所 研究員 13803711549 技術(shù)專家意見：XPS是材料表面分析技

25、術(shù)的最先進(jìn)方法，不僅可以測(cè)試元素組分、化學(xué)狀態(tài)、面分布以及深度剖析信息，同時(shí)可以對(duì)樣品進(jìn)行加熱、制冷、氣固反應(yīng)、鍍膜等處理實(shí)現(xiàn)更廣泛分析和研究。這對(duì)于材料結(jié)構(gòu)和構(gòu)想的判斷非常重要。目前本省XPS設(shè)備緊缺，不能滿足申請(qǐng)單位、兄弟院校及研究所科研的要求，特別是高水平研究工作的測(cè)試數(shù)據(jù)要得到國(guó)內(nèi)外專家認(rèn)可，目前僅河南大學(xué)使用該進(jìn)口儀器設(shè)備，建議同意采購(gòu)該產(chǎn)品。 技術(shù)專家信息：趙清香 鄭州大學(xué)材料學(xué)院 教授 15838198151 技術(shù)專家意見：XPS可以給出材料的元素組分及化學(xué)狀態(tài)，豐富使用者對(duì)樣品的認(rèn)知，目前國(guó)內(nèi)各大高校開展相關(guān)研究工作的實(shí)驗(yàn)室所購(gòu)買的儀器，均為儀器測(cè)試高效、靈敏度高

26、、檢測(cè)范圍廣的進(jìn)口設(shè)備，鄭州輕工業(yè)學(xué)?，F(xiàn)有儀器不能滿足教學(xué)和科研的要求。申請(qǐng)單位此次購(gòu)置申請(qǐng)的原因闡述充分，調(diào)查清楚，采購(gòu)XPS設(shè)備是很有必要的，建議購(gòu)買。 法律專家信息：程義貴 高文律師事務(wù)所 律師 13901045271 法律專家意見：此次申請(qǐng)購(gòu)買進(jìn)口設(shè)備符合我國(guó)相關(guān)政策規(guī)定，同時(shí)該X射線光電子能譜儀不屬于限制進(jìn)口產(chǎn)品，不違背國(guó)家產(chǎn)業(yè)政策，建議同意采購(gòu)該類進(jìn)口儀器。 《X射線光電子能譜儀（XPS）》儀器設(shè)備論證專家名單 姓名 單位 技術(shù)職稱 聯(lián)系電話（手機(jī)） 備注 張書勝 鄭州大學(xué)化學(xué)系 教授 13513801442 技術(shù)專家 張國(guó)寶 河南省分析

27、測(cè)試中心 研究員 13613813892 技術(shù)專家 趙永德 河南化學(xué)研究所 研究員 13803711549 技術(shù)專家 趙清香 鄭州大學(xué)材料學(xué)院 教授 15838198151 技術(shù)專家 程義貴 高文律師事務(wù)所 律師 13901045271 法律專家 X射線光電子能譜儀設(shè)備技術(shù)要求及功能描述一覽表 序號(hào) 設(shè)備名稱 技術(shù)要求及功能描述 備注 1 X射線光電子能譜儀 多功能型X射線光電子能譜儀（X-ray Photoelectron Spectrometer, 簡(jiǎn)稱XPS）是基礎(chǔ)的表面分析工具，在化學(xué)、化工、新材料、電子工業(yè)、

28、能源、冶金、生物醫(yī)學(xué)和環(huán)境科學(xué)中被廣泛應(yīng)用。多功能型X射線光電子能譜儀以XPS分析系統(tǒng)作為主機(jī)基本單元，可以兼容紫外光電子能譜（UPS）、離子散射譜（ISS）、無(wú)損深度分析等其他表面分析技術(shù)。適于各類具有粉末、薄膜、纖維和塊體等不同形態(tài)的金屬、非金屬、半導(dǎo)體、氧化物和化合物、復(fù)合材料、納米材料以及生物材料的表面幾個(gè)原子層（1～10 nm厚的表面）的化學(xué)組成、價(jià)態(tài)，深度剖析及成像、功函數(shù)特性等的分析與表征。供貨商必須提供采用最新一代技術(shù)和工藝制造的X射線光電子能譜儀。 一、系統(tǒng)主要結(jié)構(gòu)和功能要求 1. 主體結(jié)構(gòu)：兩室結(jié)構(gòu)，分別是分析室和樣品預(yù)處理室兼進(jìn)樣室； 2. 主要功能：?jiǎn)紊疿射

29、線源、高能單色化X射線源、非單色化雙陽(yáng)極X射線源的常規(guī)采譜、非掃描超快速采譜，快速成像，深度剖析，導(dǎo)電不良樣品荷電中和，紫外光電子能譜（UPS），離子散射譜（ISS），無(wú)損深度剖析重構(gòu)，自動(dòng)化五軸樣品臺(tái)樣品加熱和冷卻及超高真空測(cè)量裝置功能并實(shí)配實(shí)現(xiàn)這些功能的部件； 3. 樣品處理和保護(hù)：具備多位樣品條（托）停放臺(tái)，可對(duì)樣品實(shí)施加熱、冷卻和熱清洗，具備惰性氣氛樣品傳輸裝置。 二、主要技術(shù)指標(biāo) 1.單色化X射線源 1.1 射線源類型：水冷聚焦單色化Al Kα X射線源（供貨商必須提供采用最先進(jìn)的單色化射線源） *1.2 Al Kα 射線源運(yùn)行功率：≥100W 1.3 能量分辨率：Ag

30、 3d5/2分辨率≤0.45eV，且Ag 3d5/2分辨率0.45eV時(shí)計(jì)數(shù)率≥80kcps 1.4 靈敏度： *1.4.1大束斑：Ag 3d5/2 分辨率優(yōu)于0.6eV時(shí)，計(jì)數(shù)率強(qiáng)度≥1000kcps 1.4.2小束斑15μm：Ag 3d5/2 分辨率優(yōu)于0.6eV時(shí)，計(jì)數(shù)率強(qiáng)度≥2.5kcps *1.5 最小獲譜束斑：≤15μm *1.6 小束斑選區(qū)方式：虛擬探針掃描、陽(yáng)極靶電子束移動(dòng)或其它機(jī)械選區(qū)的樣品掃描方式選區(qū)分析 1.7 高能X射線源：配備高能靶材，具備高能XPS分析功能 2. 非單色化X射線光源 　 2.1 射線源類型：水冷Mg/Al(或Zr/Mg)雙陽(yáng)極X射線源

31、 2.2 功率：?jiǎn)卧垂β示坏陀?00W 2.3 能量分辨率和靈敏度 *2.3.1 大束斑：Ag 3d5/2 分辨率優(yōu)于0.82eV時(shí)，計(jì)數(shù)率強(qiáng)度≥650kcps 2.3.2小束斑100~110μm：Ag 3d5/2 分辨率優(yōu)于0.8eV時(shí)，計(jì)數(shù)率強(qiáng)度≥150kcps 3. 能量分析器 　 3.1 能量分析器：180°雙聚焦半球扇形能量分析器 3.2平均半徑：≥150mm半徑 3.3 采譜操作模式：固定通過(guò)能(CAE)模式和固定減速比（CRR）模式 3.4 成像操作模式：XPI化學(xué)成像模式或XPS Mapping成像模式 3.5 快速成像能量分辨率：和采譜模式保

32、持完全一致 3.6 具備X射線激發(fā)的SXI影像，可在高放大倍率下對(duì)樣品分析點(diǎn)進(jìn)行定位 4. 能量傳輸透鏡 4.1 能量掃描范圍：0~≥3200eV 4.2 通能范圍：5~300eV，各檔精確校準(zhǔn)傳輸函數(shù) 4.3 磁透鏡：具備浸入式或平面式磁透鏡，在采譜時(shí)可以選擇性開關(guān) 4.4 掃描方式：虛擬探針掃描或其它機(jī)械選區(qū)的樣品掃描方式 4.5 掃描精度：≤1μm 5. 光電子探測(cè)系統(tǒng) 　 *5.1 類型：電子倍增器和微通道板探測(cè)器的雙探測(cè)器獨(dú)立式設(shè)計(jì)或多通道MCP 5.2 功能：可實(shí)現(xiàn)常規(guī)采譜，非掃描超快速采譜，成像 5.3 通道數(shù)：≥64通道，可實(shí)現(xiàn)超過(guò)64通道非掃描超快速采譜

33、 6. 真空系統(tǒng) 6.1 分析室：真空腔為μ金屬或雙層μ金屬制造，真空度優(yōu)于5×10-10mbar 6.2 分析室真空泵：離子泵或分子泵以及前級(jí)泵，抽速≥250L/s 6.3 預(yù)處理室：抗磁不銹鋼制造，真空度優(yōu)于6.7×10-9mbar 6.4 預(yù)處理室真空泵：磁懸浮渦輪分子泵和獨(dú)立的機(jī)械泵，抽速≥200L/s 6.5 預(yù)處理室法蘭口：預(yù)留多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)法蘭口，可用于擴(kuò)展安裝多位樣品停放臺(tái)、加熱冷卻臺(tái)、高溫高壓反應(yīng)室、樣品斷裂臺(tái)、快速進(jìn)樣鎖和預(yù)冷器等裝置 6.6 多樣品停放臺(tái)：可放置多個(gè)樣品條和樣品座 6.7 樣品加熱冷卻臺(tái)：-150oC~600oC，控溫精度&#

34、177;1 oC，可保恒溫 6.8 超高真空監(jiān)控：超高真空規(guī)及控制單元1套 7. 荷電中和系統(tǒng) 7.1結(jié)構(gòu)及操作方式：磁透鏡+同軸電子槍+離軸低能離子/電子槍的雙槍雙束中和方式，適用于所有不導(dǎo)電樣品及粗糙表面的精準(zhǔn)荷電中和 7.2 電子源：（非）準(zhǔn)直電子源 7.3 操作方式：全自動(dòng)一鍵（ON/OFF）操作即可，無(wú)需調(diào)節(jié)電壓、束流、氣壓等參數(shù) 7.4 中和效果（PET樣品的能量分辨率和靈敏度） 7.4.1 大束斑：PET 上O-C=O 的C 1s半高寬≤0.68eV時(shí)C-H的C 1s計(jì)數(shù)率≥16kcps 7.4.2 大束斑：PET 上O-C=O 的C 1s半高寬≤0.82eV時(shí)

35、C-H的C 1s計(jì)數(shù)率≥110kcps 7.4.3 小束斑100~110μm: PET 上O-C=O 的C 1s半高寬≤0.82eV時(shí)C-H的C 1s計(jì)數(shù)率≥12kcps 8. 離子刻蝕槍 8.1 離子源：Ar源和氬團(tuán)簇離子源，He源 8.2 束斑大?。?00µm～1000µm連續(xù)可調(diào) 8.3 最大束流：≥5µA 9. 配備反射電子能量損失譜（REELS）擴(kuò)展分析功能端口 10. 紫外光電子能譜套件 　 10.1 光源：He紫外光源 10.2 能量分辨：Ag 費(fèi)米邊20~80% ≤100meV 10.3 靈敏度：Ag費(fèi)米邊20~80%為100m

36、eV時(shí)，計(jì)數(shù)率≥1000kcps 11. 離子散射譜 11.1 離子源：在清潔的Au表面上使用1keV的He+入射離子 11.2 能量分辨：≤15eV（Au半高寬） 11.3 靈敏度：Au半高寬達(dá)到或優(yōu)于12eV時(shí)靈敏度應(yīng)≥15kcps/nA（Au峰） 12. 無(wú)損深度剖析：具備最大熵方法無(wú)損表面深度剖析重構(gòu)功能，可以在不刻蝕破壞樣品的情況下，獲得樣品表面幾個(gè)納米深度的元素分布信息 13. 電磁場(chǎng)兼容性： 13.1 可承受最大靜態(tài)磁場(chǎng)：≥50μT 13.2 可承受最大交變磁場(chǎng)：≥0.28μT 13.3 可承受最大交變電場(chǎng)：≥5V/m 14. 樣品臺(tái)系統(tǒng) 14.1 軸向：5

37、軸樣品臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)X、Y、Z方向的移動(dòng)，以及傾斜和旋轉(zhuǎn)的五軸聯(lián)動(dòng)，以及常中心定位 14.2 移動(dòng)范圍：X方向≥130mm，Y方向≥25mm，Z方向≥15mm 14.3 傾斜范圍：以水平方向?yàn)檩S－90º～＋90º，角度分辨≤±1º 14.4 旋轉(zhuǎn)范圍：0~360º 14.5 樣品觀察和調(diào)整：變焦CCD攝像機(jī)觀察，全自動(dòng)調(diào)整 14.6 目視觀察窗：防X射線玻璃制造，至少2個(gè)，位于水平線以上 15. 譜儀控制和數(shù)據(jù)處理 　 15.1 軟件界面：操作簡(jiǎn)易的全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制可視化圖形界面 15.2 譜儀控制：系統(tǒng)軟件可數(shù)字化控制譜儀主機(jī)單

38、元的關(guān)鍵部件，以及各真空泵、閥門、光闌、光圈、荷電中和系統(tǒng)、離子槍和加熱冷卻等功能部件；可通過(guò)快速譜自動(dòng)確定樣品最佳分析高度；可進(jìn)行編程自動(dòng)測(cè)試；可進(jìn)行遠(yuǎn)程診斷和系統(tǒng)控制；可設(shè)定不同優(yōu)先度的使用權(quán)限 15.3 安全功能：真空、高壓、冷卻系統(tǒng)的報(bào)錯(cuò)和鎖定，有效避免誤操作 15.4 數(shù)據(jù)處理：定性分析、定量分析、曲線擬合等完備的XPS數(shù)據(jù)處理功能，包括多種智能本底扣除方法，常規(guī)曲線擬合和鎖定參數(shù)的關(guān)聯(lián)曲線擬合，可實(shí)現(xiàn)深度剖析XPS，角分辨XPS，無(wú)損深度分析重構(gòu)、其他相關(guān)的譜儀數(shù)據(jù)處理功能如UPS數(shù)據(jù)的處理等；數(shù)據(jù)處理軟件可安裝在主機(jī)外的其他計(jì)算機(jī)上使用 15.5 XPS成像處理功能：XPS

39、快速化學(xué)像的化學(xué)狀態(tài)的分布顯示和定量計(jì)算，圖—譜重構(gòu)等全面數(shù)據(jù)和圖像處理功能 15.6 數(shù)據(jù)庫(kù)：完整的XPS、UPS和其它相關(guān)譜儀完整數(shù)據(jù)庫(kù)，終身免費(fèi)升級(jí)。 15.7 數(shù)據(jù)格式：測(cè)試數(shù)據(jù)包括原始數(shù)據(jù)及分析結(jié)果可存為通用格式 15.8 計(jì)算機(jī)兩臺(tái)配置：一臺(tái)預(yù)裝數(shù)據(jù)采集和處理軟件包，另一臺(tái)處理及拷貝數(shù)據(jù)用，當(dāng)前主流配置，四核CPU（i7處理器，主頻3.4），內(nèi)存8G，硬盤不小于1T，雙顯示屏（24寸以上液晶顯示屏），帶DVD刻錄機(jī)，正版Window操作系統(tǒng)， HP打印機(jī)一臺(tái) 16. 惰性氣氛樣品傳輸裝置：使用惰性氣體氣氛保護(hù)的樣品傳輸器，可將樣品從制備樣品的地方不暴露大氣地傳輸?shù)阶V儀進(jìn)樣

40、系統(tǒng)上，實(shí)現(xiàn)無(wú)表面污染的準(zhǔn)原位分析。原廠制造，與譜儀主機(jī)進(jìn)樣接口完全匹配。 17. 烘烤系統(tǒng)：集成于系統(tǒng)內(nèi)部，最高烘烤溫度不低于120 oC 18. 電氣控制柜：與以上系統(tǒng)相關(guān)聯(lián)的電氣控制柜 19. 循環(huán)冷卻水系統(tǒng)：靜音內(nèi)循環(huán)冷卻水系統(tǒng)，滿足陽(yáng)極靶、石英單色器和磁懸浮渦輪分子泵冷卻的需要 20. 不間斷電源系統(tǒng)：具備隔離變壓器的穩(wěn)壓不間斷電源一套，保證儀器整機(jī)在斷電情況下可持續(xù)運(yùn)行至少2.5小時(shí) 21. 精密氣路：普氮1瓶，高純氮（99.99%）1瓶，高純氬（99.99%）1瓶，高純氦（99.999%）1瓶；內(nèi)拋光不銹鋼管，長(zhǎng)度由儀器與氣瓶間距離決定；精密氣體減壓閥4個(gè)。 三、隨機(jī)

41、工具、備件和資料 1. 標(biāo)準(zhǔn)工具：標(biāo)準(zhǔn)工具包1套，標(biāo)準(zhǔn)樣品1套，冷陰極規(guī)維護(hù)套件1套；盒裝手套1盒等； 2. 隨機(jī)備件：含3年以上消耗品的備件包，至少應(yīng)包括單色器燈絲，雙陽(yáng)極燈絲，離子槍燈絲，荷電中和器燈絲各1根；單色器陽(yáng)極靶鍍膜1次；照明燈泡1個(gè)；去離子水濾芯1個(gè)；水流量計(jì)傳感器1個(gè)；各種真空墊圈1套； 3. 相關(guān)資料 3.1 譜儀操作指南和維護(hù)說(shuō)明書及其光盤； 3.2 制造商所能提供的全部真空系統(tǒng)圖； 3.3 制造商所能提供的全部機(jī)械系統(tǒng)裝配圖； 3.4 制造商所能提供的全部電子學(xué)線路圖； 3.5 XPS標(biāo)準(zhǔn)譜圖手冊(cè)。 四、保修、維修以及軟件升級(jí) 1. 保修期：自驗(yàn)收合

42、格之日起三年。在保修期到前一個(gè)月安排工程師對(duì)譜儀進(jìn)行檢修和維護(hù)、排除潛在問題，并向用戶提交檢修維護(hù)報(bào)告； 2. 維修響應(yīng)：接到用戶報(bào)修2小時(shí)內(nèi)響應(yīng)，確認(rèn)需要維修時(shí)工程師于24小時(shí)內(nèi)到現(xiàn)場(chǎng)； 3. 軟件升級(jí)：在不涉及硬件升級(jí)的情況下終生免費(fèi)升級(jí)控制和數(shù)據(jù)處理軟件； 五、服務(wù)能力、安裝與培訓(xùn) 1. 技術(shù)服務(wù)團(tuán)隊(duì)組成：供貨廠商擁有完善的全球售后服務(wù)體系以及本土專業(yè)化XPS技術(shù)服務(wù)團(tuán)隊(duì)，且團(tuán)隊(duì)中應(yīng)有非兼職的國(guó)家認(rèn)可正高職職稱技術(shù)人員； 2. 技術(shù)服務(wù)團(tuán)隊(duì)能力：本土專業(yè)化XPS技術(shù)服務(wù)團(tuán)隊(duì)?wèi)?yīng)具備獨(dú)立的安裝調(diào)試能力和元件級(jí)維修水平； 3. 安裝時(shí)間：到貨2周內(nèi)安排工程師赴用戶現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行開箱和安裝； 4. 操作和基礎(chǔ)應(yīng)用培訓(xùn)：廠商提供至少為期2周的操作和基礎(chǔ)應(yīng)用培訓(xùn)，學(xué)會(huì)為止； 5. 高級(jí)應(yīng)用培訓(xùn)：廠商安排資深專家為用戶提供高級(jí)應(yīng)用培訓(xùn)； 6. 場(chǎng)地環(huán)境檢測(cè)及布局設(shè)計(jì)：儀器到貨至少1個(gè)月前安排工程師赴客戶指定地點(diǎn)進(jìn)行場(chǎng)地環(huán)境檢測(cè)及布局設(shè)計(jì)。 六、交貨地點(diǎn)： 七、交貨期： * 為必須滿足的關(guān)鍵性技術(shù)指標(biāo)